半导体器件制造方法
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101322230B

    公开(公告)日:2012-02-08

    申请号:CN200680045741.5

    申请日:2006-12-04

    Abstract: 提供一种通过光刻工艺改变光致抗蚀剂的性质以形成虚拟结构并且将该结构应用于栅电极形成工艺的半导体器件制造方法。该方法包括步骤:在半导体衬底的顶部上形成缓冲层;在缓冲层上应用无机光致抗蚀剂,并通过光刻工艺形成光致抗蚀剂图案;用预定气体来热处理光致抗蚀剂图案;在热处理后的结构上均匀沉积绝缘层,并将所沉积的层蚀刻所沉积的厚度以露出热处理后的光致抗蚀剂图案;在蚀刻后的结构上沉积绝缘层,并且蚀刻所沉积的绝缘层以露出热处理后的光致抗蚀剂图案;使用蚀刻工艺去除所露出的光致抗蚀剂图案;在光致抗蚀剂图案被去除的部分形成栅极氧化层;以及在栅极氧化层上形成栅电极。因此,在形成用于制造纳米尺寸器件的结构中,通过光刻工艺形成的层的限制通过热处理得到改善,且因此用于制造各种器件的结构可以容易形成。

    用于控制湿度的设备和方法

    公开(公告)号:CN105042757A

    公开(公告)日:2015-11-11

    申请号:CN201510179880.8

    申请日:2015-04-16

    Inventor: 刘汉泳

    CPC classification number: F24F6/14 F24F11/0008

    Abstract: 公开了湿度控制方法和设备。所述湿度控制设备可包括用于在其中储存水的贮水箱、处于与贮水箱相邻的位置用于水经此逸出的喷嘴、连接到喷嘴的第一电极、置于第一电极对面的第二电极。所述湿度控制设备可包括用于向第一电极和第二电极施加电压的第一电力控制单元、和在第二电极上形成的第一隔离体。

    唾液采集装置及方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113558671A

    公开(公告)日:2021-10-29

    申请号:CN202110191560.X

    申请日:2021-02-19

    Abstract: 本发明提供便于维护且定量、有效地采集被采集者的唾液的装置及方法。本发明提供在具有弹性特性的管子的一端部形成多个微孔并在上述管筒的另一端部连接真空泵而从形成有微孔的端抽吸和采集动物的唾液的装置。具有上述微孔的管子可通过同轴结构或包含填充材料的结构来对受唾液采集者的唾液之外的物质进行过滤。此外,提供如下的唾液采集装置及方法:利用动作传感器/位置传感器和电磁阀之类的可进行电子控制的阀,并只在使用者使用唾液采集装置时驱动装置而可实现自动化及定量控制,并通过结合畜舍内部的饮用水及空气管路来实现唾液采集管的清洗的干燥而而便于维护且有效的唾液采集装置及方法。

    用于控制湿度的设备和方法

    公开(公告)号:CN105042757B

    公开(公告)日:2019-02-05

    申请号:CN201510179880.8

    申请日:2015-04-16

    Inventor: 刘汉泳

    Abstract: 公开了湿度控制方法和设备。所述湿度控制设备可包括用于在其中储存水的贮水箱、处于与贮水箱相邻的位置用于水经此逸出的喷嘴、连接到喷嘴的第一电极、置于第一电极对面的第二电极。所述湿度控制设备可包括用于向第一电极和第二电极施加电压的第一电力控制单元、和在第二电极上形成的第一隔离体。

    半导体器件制造方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101322230A

    公开(公告)日:2008-12-10

    申请号:CN200680045741.5

    申请日:2006-12-04

    Abstract: 提供一种通过光刻工艺改变光致抗蚀剂的性质以形成虚拟结构并且将该结构应用于栅电极形成工艺的半导体器件制造方法。该方法包括步骤:在半导体衬底的顶部上形成缓冲层;在缓冲层上应用无机光致抗蚀剂,并通过光刻工艺形成光致抗蚀剂图案;用预定气体来热处理光致抗蚀剂图案;在热处理后的结构上均匀沉积绝缘层,并将所沉积的层蚀刻所沉积的厚度以露出热处理后的光致抗蚀剂图案;在蚀刻后的结构上沉积绝缘层,并且蚀刻所沉积的绝缘层以露出热处理后的光致抗蚀剂图案;使用蚀刻工艺去除所露出的光致抗蚀剂图案;在光致抗蚀剂图案被去除的部分形成栅极氧化层;以及在栅极氧化层上形成栅电极。因此,在形成用于制造纳米尺寸器件的结构中,通过光刻工艺形成的层的限制通过热处理得到改善,且因此用于制造各种器件的结构可以容易形成。

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