公开(公告)号：CN101203769B

公开(公告)日：2012-12-26

申请号：CN200680008060.1

申请日：2006-03-17

Applicant: 雅马哈株式会社

Inventor： 佐藤秀树 ,  大村昌良 ,  内藤宽 ,  大桥俊幸 ,  涌井幸夫 ,  大须贺千寻

IPC: G01R33/09 ,  H01L43/12

Abstract: 本发明提供的三轴磁传感器，形成有由多个磁阻效应元件条通过偏置磁铁串联连接结构的磁阻效应元件。X轴传感器的磁阻效应元件和Y轴传感器的磁阻效应元件形成在相对衬底平面为平行的平面上。其磁化灵敏度方向为相对各磁阻效应元件条的长度方向为垂直的方向，且X轴传感器的磁阻效应元件和Y轴传感器的磁阻效应元件的磁化方向以相互正交的方式形成。Z轴传感器的磁阻效应元件形成在由衬底平面突出设置着的突出部的斜面上，其磁化方向以位于所述斜面内的方式形成。Z轴传感器的灵敏度方向以相对所述磁阻效应元件条的长度方向为垂直的方向形成。

公开(公告)号：CN101203769A

公开(公告)日：2008-06-18

申请号：CN200680008060.1

申请日：2006-03-17

Applicant: 雅马哈株式会社

Inventor： 佐藤秀树 ,  大村昌良 ,  内藤宽 ,  大桥俊幸 ,  涌井幸夫 ,  大须贺千寻

IPC: G01R33/09 ,  H01L43/12

Abstract: 本发明提供的三轴磁传感器，形成有由多个磁阻效应元件条通过偏置磁铁串联连接结构的磁阻效应元件。X轴传感器的磁阻效应元件和Y轴传感器的磁阻效应元件形成在相对衬底平面为平行的平面上。其磁化灵敏度方向为相对各磁阻效应元件条的长度方向为垂直的方向，且X轴传感器的磁阻效应元件和Y轴传感器的磁阻效应元件的磁化方向以相互正交的方式形成。Z轴传感器的磁阻效应元件形成在由衬底平面突出设置着的突出部的斜面上，其磁化方向以位于所述斜面内的方式形成。Z轴传感器的灵敏度方向以相对所述磁阻效应元件条的长度方向为垂直的方向形成。

公开(公告)号：CN101738181A

公开(公告)日：2010-06-16

申请号：CN200910205536.6

申请日：2005-07-22

Applicant: 雅马哈株式会社

Inventor： 佐藤秀树 ,  山木清志 ,  大村昌良 ,  大须贺千寻 ,  二桥聪之 ,  马渊哲也

IPC: G01C17/38 ,  G01V3/40 ,  H04M1/725 ,  H04M1/21

CPC classification number: G01C17/38

Abstract: 本发明提供一种进行准确偏移的方位处理设备、方位处理方法、方位处理程序、方位测量单元及便携式电子设备。实现上述目的的方位处理设备是用于基于由方位传感器顺序输出的测量数据输出方位数据的方位处理设备，其具有：累积单元，其将实质上最新的所述测量数据选择性地累积；以及偏移数据更新单元，其基于由所述累积单元累积的多个所述测量数据，更新所述方位传感器的偏移数据。

公开(公告)号：CN101738181B

公开(公告)日：2012-03-21

申请号：CN200910205536.6

申请日：2005-07-22

Applicant: 雅马哈株式会社

Inventor： 佐藤秀树 ,  山木清志 ,  大村昌良 ,  大须贺千寻 ,  二桥聪之 ,  马渊哲也

IPC: G01C17/38 ,  G01V3/40 ,  H04M1/725 ,  H04M1/21

CPC classification number: G01C17/38

Abstract: 本发明提供一种进行准确偏移的方位处理设备、方位处理方法、方位处理程序、方位测量单元及便携式电子设备。实现上述目的的方位处理设备是用于基于由方位传感器顺序输出的测量数据输出方位数据的方位处理设备，其具有：累积单元，其将实质上最新的所述测量数据选择性地累积；以及偏移数据更新单元，其基于由所述累积单元累积的多个所述测量数据，更新所述方位传感器的偏移数据。

公开(公告)号：CN101023323B

公开(公告)日：2010-12-08

申请号：CN200580024919.3

申请日：2005-07-22

Applicant: 雅马哈株式会社

Inventor： 佐藤秀树 ,  山木清志 ,  大村昌良 ,  大须贺千寻 ,  二桥聪之 ,  马渊哲也

IPC: G01C17/38 ,  G01R33/02

CPC classification number: G01C17/38

Abstract: 本发明提供一种进行准确偏移的方位处理设备、方位处理方法、方位处理程序、方位测量单元及便携式电子设备。实现上述目的的方位处理设备是用于基于由方位传感器顺序输出的测量数据输出方位数据的方位处理设备，其具有：累积单元，其将实质上最新的所述测量数据选择性地累积；以及偏移数据更新单元，其基于由所述累积单元累积的多个所述测量数据，更新所述方位传感器的偏移数据。

公开(公告)号：CN101023323A

公开(公告)日：2007-08-22

申请号：CN200580024919.3

申请日：2005-07-22

Applicant: 雅马哈株式会社

Inventor： 佐藤秀树 ,  山木清志 ,  大村昌良 ,  大须贺千寻 ,  二桥聪之 ,  马渊哲也

IPC: G01C17/38 ,  G01R33/02

CPC classification number: G01C17/38

Abstract: 本发明提供一种进行准确偏移的方位处理设备、方位处理方法、方位处理程序、方位测量单元及便携式电子设备。实现上述目的的方位处理设备是用于基于由方位传感器顺序输出的测量数据输出方位数据的方位处理设备，其具有：累积单元，其将实质上最新的所述测量数据选择性地累积；以及偏移数据更新单元，其基于由所述累积单元累积的多个所述测量数据，更新所述方位传感器的偏移数据。