公开(公告)号：CN103459672A

公开(公告)日：2013-12-18

申请号：CN201280011860.4

申请日：2012-03-05

Applicant: 长濑化成株式会社

Inventor： 向喜广 ,  安江秀国 ,  吉崎了 ,  西岛佳孝

IPC: C23F1/18

CPC classification number: C23F1/18 ,  H05K3/067

Abstract: 本发明目的在于提供一种蚀刻液及使用了该蚀刻液的铜配线的形成方法，该蚀刻液可以对铜配线横截面赋予良好的顺锥形状，而且侧蚀量少、容易形成精细图案的线路，并几乎不会对透明导电膜产生损伤，蚀刻速率稳定且易于对蚀刻废液进行再利用和回收。本发明是一种蚀刻液及使用了该蚀刻液的铜配线的形成方法，用于对至少具有1层铜膜和铜合金膜的金属膜的所述铜膜和铜合金膜进行蚀刻，该蚀刻液含有：二价铜离子和三家铁离子的至少1种；至少1种的卤离子；甘氨酸、2－氨基丙酸、3－氨基丙酸、氨基异丁酸、苏氨酸、二甲基甘氨酸、鸟氨酸、赖氨酸、组氨酸和丝氨酸中的至少1种氨基酸；苹果酸、柠檬酸和丙二酸中的至少1种羧酸和/或至少1种无机酸；和水。

公开(公告)号：CN108139692A

公开(公告)日：2018-06-08

申请号：CN201680056923.6

申请日：2016-10-12

Applicant: 长濑化成株式会社

Inventor： 西岛佳孝

IPC: G03F7/42 ,  H01L21/027 ,  H01L21/304

CPC classification number: G03F7/42 ,  H01L21/027 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明的目的在于提供一种光致抗蚀剂剥离液，其在维持充分的抗蚀剂剥离性的同时，氢氧化季铵的溶解性和经时稳定性优异。本发明涉及一种光致抗蚀剂剥离液，其特征在于，包含二甲基亚砜、氢氧化季铵、亚烷基胺、以及多元醇和/或分子量为100以下的二醇醚。亚烷基胺优选为下述通式(1)所表示的亚乙基胺(通式(1)中，n表示1～5的整数)。[化1]

公开(公告)号：CN1973245A

公开(公告)日：2007-05-30

申请号：CN200580020810.2

申请日：2005-06-21

Applicant: 长濑化成株式会社

Inventor： 池崎洋次 ,  山田达也 ,  西岛佳孝

IPC: G03F7/023 ,  G03F7/022 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0236 ,  G03F7/022 ,  G03F7/095 ,  H01L21/0272

Abstract: 本发明提供一种有机膜组合物以及抗蚀剂图案形成方法，所述有机膜组合物为下层用有机膜组合物，该组合物在2层光致抗蚀剂处理中能够形成优异的侧凹形状而不会产生上层抗蚀剂和下层膜的混杂层，实用性较高。更详细地说，本发明提供下述的下层有机膜组合物以及使用该下层有机膜组合物的抗蚀剂图案形成方法，所述下层有机膜组合物用于在基板上形成具有侧凹形状的抗蚀剂图案，所述抗蚀剂图案是通过使形成于基板上的下层有机膜和上层正型光致抗蚀剂膜这2层有机膜隔着掩模进行曝光并显影而形成的，其中，所述组合物含有碱可溶性树脂(A)和溶剂(B)，所述碱可溶性树脂(A)是通过使下述(A1)的酚成分与(A2)的醛成分进行缩合而成的，所述(A1)的酚成分为3－甲基苯酚和4－甲基苯酚的混合物，所述(A2)的醛成分含有芳香族醛和甲醛。

公开(公告)号：CN1875326A

公开(公告)日：2006-12-06

申请号：CN200480032334.1

申请日：2004-10-28

Applicant: 长濑化成株式会社

Inventor： 西岛佳孝 ,  松本昌岳 ,  安江秀国 ,  武井瑞树

IPC: G03F7/42 ,  H01L21/027 ,  H01L21/304

CPC classification number: C11D7/3263 ,  C11D11/0047 ,  G03F7/425 ,  H01L21/31133

Abstract: 本发明提供一种光致抗蚀剂剥离用组合物，该组合物包含具有羟基的有机伯胺或有机仲胺与碳酸乙烯酯、碳酸丙烯酯、γ－丁内酯、1，3－二羟基－2－丙酮、或一元或二元羧酸的反应产物，该组合物根据需要还可包含有机胺、水溶性有机溶剂和/或水。该组合物能够高性能地剥离光致抗蚀剂并可防止金属配线材料的腐蚀。通过使用该组合物，在剥离之后以水冲洗的过程中不会产生诸如不溶物析出并粘附至基板等问题。