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公开(公告)号:CN117855279A
公开(公告)日:2024-04-09
申请号:CN202410068546.4
申请日:2024-01-17
Applicant: 长沙理工大学
Abstract: 本发明公开了一种GaN基纳米尺度肖特基势垒场效应晶体管,其结构包括源、漏极,栅极,氧化层以及中间沟道散射区域。其中,源、漏极采用二维金属(Ag,Au)材料;栅极采用双栅结构,分为顶栅和背栅;顶栅和背栅与衬底沟道之间均包含一个氧化层。本发明采用二维GaN材料作为衬底,金属(Ag,Au)材料作为源、漏极,与衬底材料形成肖特基势垒接触;双栅结构可增强栅极对沟道的控制能力,有效解决沟道长度缩小至10nm以下时,短沟道效应和量子效应引起的器件性能缺陷。当沟道长度为5.1nm时,器件的关态电流小于0.1μA/μm,实现正常关断;器件的开态电流大于1100μA/μm,满足国际半导体技术路线图(ITRS)对高性能器件的要求。
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公开(公告)号:CN114664939A
公开(公告)日:2022-06-24
申请号:CN202210424809.1
申请日:2022-04-22
Applicant: 长沙理工大学
IPC: H01L29/47 , H01L29/16 , H01L29/812
Abstract: 本发明公开了一种SiC基纳米尺度非对称肖特基整流晶体管,其结构包括中间沟道散射区域和两个金属电极。其中,中间沟道散射区域采用二维SiC材料;两个金属电极分别采用4种二维金属材料(Al,Au,Pd,Ag)中的一种或者两种。该发明中,两个金属电极与衬底材料之间形成肖特基接触。当两个金属电极分别采用不同二维金属材料时,形成非对称肖特基接触结构,此时晶体管具有整流特性。当两个金属电极分别采用二维Pd和Au材料时,晶体管的整流特性最好,整流比可达750。
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