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公开(公告)号：CN102603967B
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201110181723.2
申请日：2011-06-30
Applicant: 韩国锦湖石油化学株式会社
IPC: C08F220/56 , C08F220/58 , C08F220/60 , C08F232/08 , C08F220/34 , C08F220/54 , G03F7/00 , G03F7/004 , G03F7/039
Abstract: 本发明涉及一种用于形成微细图形的水溶性树脂组合物，在形成有接触孔图形的光致抗蚀剂薄膜上进行涂敷及热处理，从而减小上述接触孔的尺寸，其包含由下述化学式1表示的水溶性聚合物和第1水溶性溶剂，[化学式1]在上述化学式1中，R1、R2、R3和R5各是分别独立地包含氢、醚基、酯基、羰基、乙酰基、环氧基、腈基、胺基或醛基的C1-30的烷基或C3-30的环烷基，R4、R6、R7和R8分别独立地是氢或甲基，n是0～5的整数，a是0.05～0.5的实数，b、c和d分别是0～0.7的实数，上述a、b、c和d满足a+b+c+d＝1的条件。
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公开(公告)号：CN101987880A
公开(公告)日：2011-03-23
申请号：CN201010231598.7
申请日：2010-07-15
Applicant: 锦湖石油化学株式会社
IPC: C08F220/18 , C08F232/08 , C08F220/28 , C08F222/20 , G03F7/004
Abstract: 本发明提供了一种包含由式1至4表示的单体的新型共聚物，以及包含该共聚物的光刻胶组合物：[式1][式2][式3][式4]其中在式1至4中，R1至R10各自独立地代表选自卤素原子、羟基、羧基、腈基、醛基、环氧基、烷基、环烷基、杂环烷基、芳基和杂芳基的任一种基团；a是0-10的整数；b是0-14的整数；l，m，n和o是整数，并满足以下关系：l+m+n+o＝1，0.01＜l/(l+m+n+o)＜0.4，0＜m/(l+m+n+o)＜0.6，0≤n/(l+m+n+o)＜0.6，并且0＜o/(l+m+n+o)＜0.4。所述共聚物迅速溶于普通溶剂，易溶于大部分溶剂。该共聚物根据引入其中的烯烃的量可制成具有理想分子量的树脂，因此可以不使用分子量控制剂来进行生产。
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公开(公告)号：CN102603587B
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN201210004606.3
申请日：2012-01-04
Applicant: 锦湖石油化学株式会社
IPC: C07C381/12 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C303/32 , C07D307/64 , C07D333/46 , G03F7/004
CPC classification number: C07D307/64 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07D333/46 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , G03F7/0397
Abstract: [化学式1]本发明涉及锍化合物、光致产酸剂及其制备方法。具体而言，本发明提供了由式(1)表示的锍化合物、光致产酸剂以及制备锍化合物的方法。在式1中，X表示供电子基团；R1和R2各自表示烷基、环烷基等；R3和R4各自表示亚芳基或亚杂芳基；R5和R6各自表示烷基、环烷基等；且A-和B-为彼此不同的阴离子。当所述锍化合物用作光致产酸剂时，其可产生均匀且优异的抗蚀图形。
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公开(公告)号：CN103772341A
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201310183634.0
申请日：2013-05-17
Applicant: 锦湖石油化学株式会社
IPC: C07D311/94 , C08F220/28 , C08F232/08 , G03F7/004 , G03F7/00
Abstract: 本发明提供一种利用光刻技术形成图案、特别是以NPD方式形成图案时防止厚度降低以及其导致的抗蚀剂的抗蚀刻性下降从而有用于形成具有优异的敏感度和分辨率的精细抗蚀剂图案的化学式1的丙烯酸类单体、包含有从上述丙烯酸类单体衍生的重复单元的抗蚀剂聚合物以及包含该聚合物的抗蚀剂组合物。[化学式1]在上述式中，各取代基如同说明书中所定义的。
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公开(公告)号：CN103513510A
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：CN201210548586.6
申请日：2012-12-17
Applicant: 韩国锦湖石油化学株式会社
Abstract: 本发明公开了一种在由显像处理形成了图案的光阻膜上进行涂抹及热处理以减少所述图案的大小的用于形成细微图案的水溶性树脂组成物，所述组成物包括用下面的[化学式1]标示的水溶性聚合物及第1水溶性溶剂，[化学式1]其中，所述[化学式1]中，R1、R2、R3和R5各为包括独立的氢、C1～C20的烷基、C3～C20的烯基、C6～C20的芳基、C1～C20的羟烷基、C6～C20的羟芳基、C2～C20的羰烷基、C7～C20的羰芳基、C1～C20的烷氧基、C6～C20的芳基烷氧基或C3-30的环烷基，R4是芳基磺酸、烷基磺酸、烷基羧酸、芳基酸、盐酸、氢氟酸、溴酸或无机酸，且a∶b＝1～3∶0.1～3。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103513510B
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：CN201210548586.6
申请日：2012-12-17
Applicant: 韩国锦湖石油化学株式会社
Abstract: 本发明公开了一种在由显像处理形成了图案的光阻膜上进行涂抹及热处理以减少所述图案的大小的用于形成细微图案的水溶性树脂组成物，所述组成物包括用下面的[化学式1]标示的水溶性聚合物及第1水溶性溶剂，[化学式1]其中，所述[化学式1]中，R1、R2、R3和R5各为包括独立的氢、C1～C20的烷基、C3～C20的烯基、C6～C20的芳基、C1～C20的羟烷基、C6～C20的羟芳基、C2～C20的羰烷基、C7～C20的羰芳基、C1～C20的烷氧基、C6～C20的芳基烷氧基或C3-30的环烷基，R4是芳基磺酸、烷基磺酸、烷基羧酸、芳基酸、盐酸、氢氟酸、溴酸或无机酸，且a∶b＝1～3∶0.1～3。
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公开(公告)号：CN103772341B
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201310183634.0
申请日：2013-05-17
Applicant: 锦湖石油化学株式会社
IPC: C07D311/94 , C08F220/28 , C08F232/08 , G03F7/004 , G03F7/00
Abstract: 本发明提供一种利用光刻技术形成图案、特别是以NPD方式形成图案时防止厚度降低以及其导致的抗蚀剂的抗蚀刻性下降从而有用于形成具有优异的敏感度和分辨率的精细抗蚀剂图案的化学式1的丙烯酸类单体、包含有从上述丙烯酸类单体衍生的重复单元的抗蚀剂聚合物以及包含该聚合物的抗蚀剂组合物。[化学式1]在上述式中，各取代基如同说明书中所定义的。
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公开(公告)号：CN103186041B
公开(公告)日：2015-01-28
申请号：CN201210570425.7
申请日：2012-12-25
Applicant: 锦湖石油化学株式会社
Abstract: 本发明公开了一种下式1表示的抗蚀剂添加剂和包含该添加剂的抗蚀剂组合物。该抗蚀剂添加剂改善抗蚀剂膜表面的疏水性以防止在浸没式光刻工艺过程中抗蚀剂膜中的材料在水中被浸出，并且在显影工艺过程中被显影剂剥离以改善抗蚀剂膜表面的亲水性并允许抗蚀剂膜表面具有低的静态接触角，使得可以形成具有优异的敏感度和高分辨率的抗蚀剂膜微图案：式1在式1中，取代基的定义如说明书中所述。
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公开(公告)号：CN101987880B
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN201010231598.7
申请日：2010-07-15
Applicant: 锦湖石油化学株式会社
IPC: C08F220/18 , C08F232/08 , C08F220/28 , C08F222/20 , G03F7/004
Abstract: 本发明提供了一种包含由式1至4表示的单体的新型共聚物，以及包含该共聚物的光刻胶组合物：[式1][式2][式3][式4]其中在式1至4中，R1至R10各自独立地代表选自卤素原子、羟基、羧基、腈基、醛基、环氧基、烷基、环烷基、杂环烷基、芳基和杂芳基的任一种基团；a是0-10的整数；b是0-14的整数；l，m，n和o是整数，并满足以下关系：l+m+n+o＝1，0.01＜l/(l+m+n+o)＜0.4，0＜m/(l+m+n+o)＜0.6，0≤n/(l+m+n+o)＜0.6，并且0＜o/(l+m+n+o)＜0.4。所述共聚物迅速溶于普通溶剂，易溶于大部分溶剂。该共聚物根据引入其中的烯烃的量可制成具有理想分子量的树脂，因此可以不使用分子量控制剂来进行生产。
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公开(公告)号：CN102629074B
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201210028642.3
申请日：2012-02-07
Applicant: 锦湖石油化学株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C309/10 , C07C303/32 , C07D307/33
CPC classification number: C07C309/10 , C07C381/12 , C07C2601/14 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , C07D307/33 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明涉及光酸产生剂、其制备方法及包含光酸产生剂的抗蚀剂组合物。本发明提供由下式(1)表示的光酸产生剂、制备所述光酸产生剂的方法，以及包含所述光酸产生剂的抗蚀剂组合物：[化学式1]其中在式(1)中，Y1、Y2、X、R1、R2、n1、n2和A+具有与本发明详述中相同的定义。所述光酸产生剂在ArF浸液式光刻法时可保持合适的接触角，可减少浸液式光刻法过程中出现的缺陷，在抗蚀剂溶剂中具有优异的溶解性，并且与树脂的相容性很好。此外，所述光酸产生剂可使用工业易得的环氧化合物，通过有效且简单的方法进行制备。
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