公开(公告)号：CN101342534B

公开(公告)日：2013-08-28

申请号：CN200810126036.9

申请日：2008-06-30

Applicant: 量子全球技术有限公司

Inventor： 包立源 ,  萨曼莎·S·H·潭 ,  蒋安北

IPC: B08B3/08 ,  C23G1/00 ,  C23G3/00

CPC classification number: C23G3/00 ,  B08B3/08 ,  C23C14/564 ,  C23C16/4407 ,  C23F1/00 ,  C23F1/26 ,  C23F1/44 ,  C23G1/00 ,  C23G1/22

Abstract: 本发明提供用选择性喷涂刻蚀来清洁沉积室零件的方法和设备。在一个方面，提供了对电子器件制造处理室零件进行清洁的方法，包括：a)用酸喷涂零件；b)用DI水喷涂该零件；和c)用氢氧化钾处理该零件。还提供了其他方面。

公开(公告)号：CN103406300A

公开(公告)日：2013-11-27

申请号：CN201310315038.3

申请日：2008-06-30

Applicant: 量子全球技术有限公司

Inventor： 包立源 ,  萨曼莎·S·H·潭 ,  蒋安北

IPC: B08B3/08

CPC classification number: C23G3/00 ,  B08B3/08 ,  C23C14/564 ,  C23C16/4407 ,  C23F1/00 ,  C23F1/26 ,  C23F1/44 ,  C23G1/00 ,  C23G1/22

Abstract: 本发明提供用选择性喷涂刻蚀来清洁沉积室零件的方法和设备。在一个方面，提供了对电子器件制造处理室零件进行清洁的方法，包括：a)用酸喷涂零件；b)用DI水喷涂该零件；和c)用氢氧化钾处理该零件。还提供了其他方面。

公开(公告)号：CN103406300B

公开(公告)日：2017-11-03

申请号：CN201310315038.3

申请日：2008-06-30

Applicant: 量子全球技术有限公司

Inventor： 包立源 ,  萨曼莎·S·H·潭 ,  蒋安北

IPC: B08B3/08

CPC classification number: C23G3/00 ,  B08B3/08 ,  C23C14/564 ,  C23C16/4407 ,  C23F1/00 ,  C23F1/26 ,  C23F1/44 ,  C23G1/00 ,  C23G1/22

Abstract: 本发明提供用选择性喷涂刻蚀来清洁沉积室零件的方法和设备。在一个方面，提供了对电子器件制造处理室零件进行清洁的方法，包括：a)用酸喷涂零件；b)用DI水喷涂该零件；和c)用氢氧化钾处理该零件。还提供了其他方面。