-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108550592A
公开(公告)日：2018-09-18
申请号：CN201810281640.2
申请日：2018-04-02
Applicant: 重庆邮电大学
IPC: H01L27/144 , H01L31/0352
Abstract: 本发明请求保护一种低暗计数率CMOS SPAD光电器件，在常规的P+/N-well型的SPAD结构基础上加入一层P阱层，P阱层位于P+层和N阱层的中间；于此同时，采用N阱间隙作为该结构的虚拟保护环，也就是在PN结的两侧加入N阱，如摘要附图所示。入射光射入器件在中心N阱处被吸收并产生光生载流子，PN结两侧所采用的是P阱层与N阱层，此时的雪崩结为P-well/N-well结，由于是轻掺杂雪崩结，耗尽区宽度变宽，减少了载流子带间隧穿的概率，从而降低了暗计数率。同时采用虚拟保护环抑制PN结的边缘击穿，虚拟保护的形成原理是相邻N阱之间存在横向扩散，从而在PN结出形成了n-的虚拟保护环。该结构从保护环以及耗尽区宽度两方面进行设计，降低器件的暗电流，从而降低其暗计数率。
-
公开(公告)号：CN108550592B
公开(公告)日：2020-08-04
申请号：CN201810281640.2
申请日：2018-04-02
Applicant: 重庆邮电大学
IPC: H01L27/144 , H01L31/0352
Abstract: 本发明请求保护一种低暗计数率CMOS SPAD光电器件，在常规的P+/N‑well型的SPAD结构基础上加入一层P阱层，P阱层位于P+层和N阱层的中间；于此同时，采用N阱间隙作为该结构的虚拟保护环，也就是在PN结的两侧加入N阱，如摘要附图所示。入射光射入器件在中心N阱处被吸收并产生光生载流子，PN结两侧所采用的是P阱层与N阱层，此时的雪崩结为P‑well/N‑well结，由于是轻掺杂雪崩结，耗尽区宽度变宽，减少了载流子带间隧穿的概率，从而降低了暗计数率。同时采用虚拟保护环抑制PN结的边缘击穿，虚拟保护的形成原理是相邻N阱之间存在横向扩散，从而在PN结出形成了n‑的虚拟保护环。该结构从保护环以及耗尽区宽度两方面进行设计，降低器件的暗电流，从而降低其暗计数率。
-
公开(公告)号：CN106847960B
公开(公告)日：2019-04-09
申请号：CN201710058637.X
申请日：2017-01-23
Applicant: 重庆邮电大学
IPC: H01L31/0352 , H01L31/107 , H01L31/18
Abstract: 本发明请求保护一种采用p+n阱型二极管结构，同时引进保护环与深n阱结构以提高单光子雪崩二极管光电探测效率；采用合适的光窗口面积和过偏压，以获得较高的光电探测效率；通过调节其他的工艺和结构参数，可对器件的光电探测效率进行进一步的优化设计。扩散n阱保护环宽度对雪崩击穿特性影响较大，保护环宽度在0.8‑1.5μm时，器件的击穿特性较好；确定好器件的探测效率和击穿电压后，通过对器件的参数进行进一步的优化设计，可以得到较好的频率响应特性。单光子雪崩二极管器件扩散n阱保护环宽度为1μm时，雪崩击穿电压为13.2V。窗口面积直径为20μm，过偏压为1V最大探测效率高达37％；窗口面积直径为10μm，过偏压为1V时最大探测效率高达52％，过偏压为2V时最大探测效率高达55％。
-
公开(公告)号：CN107946389A
公开(公告)日：2018-04-20
申请号：CN201711121289.2
申请日：2017-11-14
Applicant: 重庆邮电大学
IPC: H01L31/0352 , H01L31/107 , H01L31/18
CPC classification number: Y02P70/521 , H01L31/107 , H01L31/035272 , H01L31/03529 , H01L31/1876
Abstract: 本发明请求保护一种针对长波段微弱光的CMOS单光子雪崩二极管，具体结构是：在P型衬底上制作深N阱，然后在深N阱内制作P型重掺杂区，由P+层与深N阱构成PN结，作为雪崩倍增区，P+区周围环绕轻掺杂P阱作为保护环，入射光射入器件后在中等电场强度的深N阱区被吸收，产生的光生载流子向强电场区的雪崩倍增区移动。由于较长波段光产生的电子空穴在器件较深处形成，该发明深N阱可对这部分光信号进行有效探测。深N阱/P衬底作为屏蔽二极管，阻止衬底光生载流子扩散至PN结，从而减少了衬底慢光生载流子扩散对光电探测器响应速度的影响。本发明提高器件在长波段的吸收效率。
-
公开(公告)号：CN106847960A
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201710058637.X
申请日：2017-01-23
Applicant: 重庆邮电大学
IPC: H01L31/0352 , H01L31/107 , H01L31/18
CPC classification number: Y02P70/521 , H01L31/107 , H01L31/035236 , H01L31/18
Abstract: 本发明请求保护一种采用p+n阱型二极管结构，同时引进保护环与深n阱结构以提高单光子雪崩二极管光电探测效率；采用合适的光窗口面积和过偏压，以获得较高的光电探测效率；通过调节其他的工艺和结构参数，可对器件的光电探测效率进行进一步的优化设计。扩散n阱保护环宽度对雪崩击穿特性影响较大，保护环宽度在0.8‑1.5μm时，器件的击穿特性较好；确定好器件的探测效率和击穿电压后，通过对器件的参数进行进一步的优化设计，可以得到较好的频率响应特性。单光子雪崩二极管器件扩散n阱保护环宽度为1μm时，雪崩击穿电压为13.2V。窗口面积直径为20μm，过偏压为1V最大探测效率高达37％；窗口面积直径为10μm，过偏压为1V时最大探测效率高达52％，过偏压为2V时最大探测效率高达55％。
-
-
-
-
Search Results
5
records
(took 0.02 seconds)
