-
公开(公告)号：CN116879329A
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN202310869557.8
申请日：2023-07-14
Applicant: 重庆大学
IPC: G01N23/20008 , G01N23/20
Abstract: 本发明提供一种Mg‑Li双相合金EBSD样品的制备方法，结合氩离子束抛光技术对Mg‑Li双相合金材料表面的污染、划痕以及应变层进行去除，具体为第一步采用大电压、大电流和小角度进行粗抛光，第二步采用小电压、小电流和小角度进行精抛光，通过低角度抛光降低氩离子束作用深度、结合低温环境降低氩离子束抛光引起的温升，以此来减低样品表面损伤，从而获得Mg‑Li双相合金中β‑Li相的有效解析，综合解析率高达97％。
Search Results
1
records
(took 0.029 seconds)
筛选
AND
AND
过滤
NOT
NOT
Scan to Join
