一种去除金属钴中杂质氧的方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119287174A

    公开(公告)日:2025-01-10

    申请号:CN202411314791.5

    申请日:2024-09-20

    Abstract: 本发明公开了一种去除金属钴中杂质氧的方法,属于金属材料加工技术领域,解决了现有技术的工艺难以深度去除钴中氧、无法获得超高纯度钴的问题。该方法包括以下步骤:步骤S1,对金属钴原料进行预处理,获得洁净的待处理金属钴;步骤S2,对待处理金属钴进行真空电子束熔炼,得到金属钴铸锭;其中,在真空电子束熔炼过程中引入氢气,使氢气及其经由电子束电离形成的氢原子与熔炼形成的金属钴熔滴表面的氧反应,以熔炼得到低氧含量的金属钴铸锭。本发明的方法通过电子束滴熔技术结合氢还原去除金属钴中的氧,增加了熔滴中氧脱除的驱动力,从而实现金属钴中杂质氧的深度去除。

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