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公开(公告)号：CN118206374A
公开(公告)日：2024-06-18
申请号：CN202410056056.2
申请日：2024-01-15
IPC: C04B35/495 , C04B35/622 , C23C14/35 , C23C14/08
Abstract: 本发明公开了用于节能玻璃领域的铯钨青铜陶瓷靶材及其制备方法。该制备方法包括：将铯钨青铜粉末预压制成型得到铯钨青铜初生坯；将铯钨青铜初生坯冷等静压得到铯钨青铜次生坯；将铯钨青铜次生坯在保护气氛下烧结得到铯钨青铜靶坯，铯钨青铜靶坯的平均粒径为1～15μm，致密度大于85％，纯度大于99.9％；将铯钨青铜靶坯机加工得到铯钨青铜陶瓷靶材。制备得到的铯钨青铜陶瓷靶材微观组织均匀、晶粒细小均匀、致密度高，成分均匀、纯度大于99.9％、满足后续磁控溅射镀膜的要求，成本低，且采用本发明实施例公开的铯钨青铜陶瓷靶材磁控溅射得到的铯钨青铜薄膜组织均匀，成分均匀，近红外光屏蔽效果好，可见光透过率高，使用寿命长。
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公开(公告)号：CN117819967A
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202410056045.4
申请日：2024-01-15
IPC: C04B35/495 , C23C14/35 , C23C14/08 , C04B35/622
Abstract: 本发明公开了一种用于制备近红外光屏蔽薄膜的铯钨青铜陶瓷靶材及其制备方法。该制备方法包括：称取设定量的铯钨青铜粉体；在热压模具中铺展一层石墨纸或喷涂一层氮化硼喷剂，然后再铺展一层防污染材料；将铯钨青铜粉体放入热压模具中压实，并对热压模具进行封口，放入热压烧结炉中预压制铯钨青铜粉体；调节参数，对铯钨青铜粉体进行热压烧结，得到铯钨青铜烧结坯体；将得到的铯钨青铜烧结坯体进行机加工处理，得到铯钨青铜陶瓷靶材。制备得到的铯钨青铜陶瓷靶材微观组织均匀、晶粒细小、致密度大于98％，成分均匀、纯度大于99.9％、满足后续磁控溅射镀膜的要求，成本低，磁控溅射得到的铯钨青铜薄膜近红外光屏蔽效果好，可见光透过率高，使用寿命长。
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公开(公告)号：CN118497673A
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN202410628851.4
申请日：2024-05-21
Abstract: 本发明实施例公开了用于近红外屏蔽膜的铯钨青铜薄膜及其制备方法；方法包括，以铯钨青铜靶材为溅射靶材，以平面基材为基底，在磁控溅射装置内进行溅射镀膜，在基底材料得到铯钨青铜薄膜，对铯钨青铜薄膜进行热处理，得到用于近红外屏蔽膜的铯钨青铜薄膜，其中，热处理温度设置在200～450℃之间。热处理为在溅射镀膜过程中，对基底进行加热，热处理过程与溅射成膜过程同步进行；或者在溅射镀膜结束后，对得到的铯钨青铜薄膜进行热处理。得到的可见光透过率高、近红外光阻隔率高、紫外阻隔率高的高质量铯钨青铜薄膜作为应用于近红外屏蔽膜的铯钨青铜薄膜，还能制作成铯钨青铜薄膜基复合膜；在近红外屏蔽膜领域有良好应用前景。
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公开(公告)号：CN117226093A
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN202311248326.1
申请日：2023-09-25
Applicant: 郑州大学
Abstract: 本发明实施例公开了骨植入物材料多孔钽及其制备方法；制备方法包括：金属钽粉、造孔剂、粘结剂按照设定比例混合，得到混合物料；混合物料预压成型；预压成型的混合物料冷等静压压制，得到物料生坯；利用水处理得到的物料生坯，去除物料生坯中的部分造孔剂；水处理后的物料生坯进行真空烧结，去除物料生坯中的剩余造孔剂，得到骨植入物材料多孔钽；其中，骨植入物材料多孔钽的显气孔率为48～70％，平均孔径为10～150μm，孔洞分布均匀且孔隙具有互联性，通过改变造孔剂的添加量、粒径及形状可实现对多孔钽材料的各项性能的调整，满足医用植入材料产品相关参数的要求，在医用植入材料领域有良好应用前景。
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