公开(公告)号：CN102375153B

公开(公告)日：2015-10-21

申请号：CN201110257535.3

申请日：2011-08-09

Applicant: 通用电气公司

Inventor： J·M·卢斯蒂格 ,  F·L·格莱休斯

IPC: G01T3/00

CPC classification number: H01J47/12 ,  G01T1/185 ,  G01T3/008

Abstract: 本发明的某些实施例可包括用于提供探测器中阳极与阴极电分离的系统、方法以及设备。根据本发明的示例实施例，呈现了用于提供中子探测器管的方法。该方法可包括在与中子探测器(100)关联的非导电阴极管(102)的内表面的至少一部分上施加导电层(104)；用阴极罩(112)密封中子探测器管(100)的第一部分(126)；以及用阳极罩(120)密封该中子探测管(100)的第二部分(128)。

公开(公告)号：CN102375153A

公开(公告)日：2012-03-14

申请号：CN201110257535.3

申请日：2011-08-09

Applicant: 通用电气公司

Inventor： J·M·卢斯蒂格 ,  F·L·格莱休斯

IPC: G01T3/00

CPC classification number: H01J47/12 ,  G01T1/185 ,  G01T3/008

Abstract: 本发明的某些实施例可包括用于提供探测器中阳极与阴极电分离的系统、方法以及设备。根据本发明的示例实施例，呈现了用于提供中子探测器管的方法。该方法可包括在与中子探测器(100)关联的非导电阴极管(102)的内表面的至少一部分上施加导电层(104)；用阴极罩(112)密封中子探测器管(100)的第一部分(126)；以及用阳极罩(120)密封该中子探测管(100)的第二部分(128)。

公开(公告)号：CN102847596A

公开(公告)日：2013-01-02

申请号：CN201210319614.7

申请日：2012-06-27

Applicant: 通用电气公司

Inventor： J·M·卢斯蒂格 ,  J·L·约翰宁

IPC: B02C19/06

CPC classification number: B02C19/06 ,  C01B35/023

Abstract: 本发明涉及利用惰性气体喷射研磨硼粉末以满足纯度要求。提供了用于避免杂质污染的研磨硼(44，72)的加工系统(40)和相关方法。该系统包括用于减小硼原料(44)的颗粒大小的喷射研磨机(42)和用于朝向喷射研磨机(42)传送硼原料(44)的原料入口(54)。该系统包括至少一个入口(例如，46，60)，其用于将至少一种气体(例如，48，62)传送到喷射研磨机(42)中。气体和硼原料(44)在研磨减小硼颗粒大小期间在喷射研磨机(42)内混合。该系统包括至少一种气体的源，其操作地连接至至少一个入口(例如，46，60)，其中，该至少一种气体(例如，48，62)是避免在研磨减小硼颗粒大小期间转移杂质的气体。