公开(公告)号：CN1657973B

公开(公告)日：2010-12-01

申请号：CN200510009567.6

申请日：2005-02-18

Applicant: 通用电气公司

Inventor： L·L·克拉克 ,  B·M·帕尔默 ,  J·L·约翰宁 ,  K·D·琼斯 ,  J·R·威廉斯 ,  A·E·沙尔霍布

IPC: G01T1/202 ,  G01T1/20 ,  G01T7/00

CPC classification number: G01T1/202

Abstract: 一种辐射探测器(10)，其包括壳体(12)，都支撑于壳体的具有4个纵向延伸角部的细长矩形晶体和光电倍增管(44)，沿轴向位于光电倍增管的平面端部和晶体之间的光导管(46)，和多个沿矩形晶体的各纵向延伸角部延伸的细长导轨(68)，形成了晶体和壳体之间的空气隙。

公开(公告)号：CN1680827A

公开(公告)日：2005-10-12

申请号：CN200510064874.4

申请日：2005-04-08

Applicant: 通用电气公司

Inventor： L·L·克拉克 ,  J·R·威廉斯 ,  B·M·帕尔默 ,  J·L·约翰宁 ,  K·D·琼斯 ,  A·E·沙尔霍布

IPC: G01T1/20 ,  G01T1/202 ,  G01T1/208

CPC classification number: G01T1/202 ,  G01T1/20

Abstract: 一种辐射探测器(10)，其包括壳体(12)；在壳体内支撑的晶体(16)和光电倍增管(20)。若干延长的平直塑料或陶瓷弹簧(50)径向位于晶体以及光电倍增管和壳体之间，并且至少一个附加弹簧位于晶体的一端。

公开(公告)号：CN1657973A

公开(公告)日：2005-08-24

申请号：CN200510009567.6

申请日：2005-02-18

Applicant: 通用电气公司

Inventor： L·L·克拉克 ,  B·M·帕尔默 ,  J·L·约翰宁 ,  K·D·琼斯 ,  J·R·威廉斯 ,  A·E·沙尔霍布

IPC: G01T1/202 ,  G01T1/20 ,  G01T7/00

CPC classification number: G01T1/202

Abstract: 一种辐射探测器(10)，其包括壳体(12)，都支撑于壳体的具有4个纵向延伸角部的细长矩形晶体和光电倍增管(44)，沿轴向位于光电倍增管的平面端部和晶体之间的光导管(46)，和多个沿矩形晶体的各纵向延伸角部延伸的细长导轨(68)，形成了晶体和壳体之间的空气隙。

公开(公告)号：CN102847596A

公开(公告)日：2013-01-02

申请号：CN201210319614.7

申请日：2012-06-27

Applicant: 通用电气公司

Inventor： J·M·卢斯蒂格 ,  J·L·约翰宁

IPC: B02C19/06

CPC classification number: B02C19/06 ,  C01B35/023

Abstract: 本发明涉及利用惰性气体喷射研磨硼粉末以满足纯度要求。提供了用于避免杂质污染的研磨硼(44，72)的加工系统(40)和相关方法。该系统包括用于减小硼原料(44)的颗粒大小的喷射研磨机(42)和用于朝向喷射研磨机(42)传送硼原料(44)的原料入口(54)。该系统包括至少一个入口(例如，46，60)，其用于将至少一种气体(例如，48，62)传送到喷射研磨机(42)中。气体和硼原料(44)在研磨减小硼颗粒大小期间在喷射研磨机(42)内混合。该系统包括至少一种气体的源，其操作地连接至至少一个入口(例如，46，60)，其中，该至少一种气体(例如，48，62)是避免在研磨减小硼颗粒大小期间转移杂质的气体。

公开(公告)号：CN1680827B

公开(公告)日：2011-04-06

申请号：CN200510064874.4

申请日：2005-04-08

Applicant: 通用电气公司

Inventor： L·L·克拉克 ,  J·R·威廉斯 ,  B·M·帕尔默 ,  J·L·约翰宁 ,  K·D·琼斯 ,  A·E·沙尔霍布

IPC: G01T1/20 ,  G01T1/202 ,  G01T1/208

CPC classification number: G01T1/202 ,  G01T1/20

Abstract: 一种辐射探测器(10)，其包括壳体(12)；在壳体内支撑的晶体(16)和光电倍增管(20)。若干延长的平直塑料或陶瓷弹簧(50)径向位于晶体以及光电倍增管和壳体之间，并且至少一个附加弹簧位于晶体的一端。