公开(公告)号：CN112513337A

公开(公告)日：2021-03-16

申请号：CN201980050898.4

申请日：2019-07-12

Applicant: 迪普索股份公司

Inventor： 森井豊 ,  长田刚 ,  汤浅智志

IPC: C25D3/60 ,  C25D5/18

Abstract: 本发明提供一种锡合金电镀浴，其含有(A)可溶性锡盐、(B)可溶性镍盐和可溶性钴盐中的至少1种、(C)羟基羧酸或其盐、(D)含氮杂环式不饱和化合物和(E)表面活性剂，该锡合金电镀浴的pH为3～7。

公开(公告)号：CN106574387B

公开(公告)日：2019-10-18

申请号：CN201580041242.8

申请日：2015-07-10

Applicant: 迪普索股份公司

Inventor： 樱井仁志 ,  小野和则 ,  桥本章 ,  汤浅智志

IPC: C25D3/58 ,  C25D3/56

Abstract: 本发明提供一种铜‑镍合金电镀浴，其含有(a)铜盐和镍盐、(b)金属络合剂、(c)导电性赋予盐、(d)含硫有机化合物和(e)氧化还原电位调节剂。

公开(公告)号：CN106574387A

公开(公告)日：2017-04-19

申请号：CN201580041242.8

申请日：2015-07-10

Applicant: 迪普索股份公司

Inventor： 樱井仁志 ,  小野和则 ,  桥本章 ,  汤浅智志

IPC: C25D3/58 ,  C25D3/56

Abstract: 本发明提供一种铜‑镍合金电镀浴，其含有(a)铜盐和镍盐、(b)金属络合剂、(c)导电性赋予盐、(d)含硫有机化合物和(e)氧化还原电位调节剂。

公开(公告)号：CN107075713A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201580055714.5

申请日：2015-06-25

Applicant: 迪普索股份公司

Inventor： 樱井仁志 ,  小野和则 ,  桥本章 ,  汤浅智志

IPC: C25D21/14 ,  C25D3/56 ,  C25D3/58 ,  C25D17/00

Abstract: 本发明提供一种铜‑镍合金电镀装置，其能够在被镀物上稳定地形成铜和镍组成均匀的电镀层，并且能够长时间使用电镀浴。本发明是一种铜‑镍合金电镀装置(1)，其特征在于，具有：阴极室(4)，被镀物(5)配置于其内部；阳极室(6)；阳极(7)，其配置于该阳极室的内部；可通电的隔膜(14)，其以分隔阴极室和阳极室的方式配置；阴极室氧化还原电位调节槽(8)，其用于调节阴极室内的电镀液的氧化还原电位；阳极室氧化还原电位调节槽(10)，用于调节阳极室内的电镀液的氧化还原电位；和电源部(36)，其使电流在被镀物与阳极之间流动。

公开(公告)号：CN107075713B

公开(公告)日：2019-09-24

申请号：CN201580055714.5

申请日：2015-06-25

Applicant: 迪普索股份公司

Inventor： 樱井仁志 ,  小野和则 ,  桥本章 ,  汤浅智志

IPC: C25D21/14 ,  C25D3/56 ,  C25D3/58 ,  C25D17/00

Abstract: 本发明提供一种铜‑镍合金电镀装置，其能够在被镀物上稳定地形成铜和镍组成均匀的电镀层，并且能够长时间使用电镀浴。本发明是一种铜‑镍合金电镀装置(1)，其特征在于，具有：阴极室(4)，被镀物(5)配置于其内部；阳极室(6)；阳极(7)，其配置于该阳极室的内部；可通电的隔膜(14)，其以分隔阴极室和阳极室的方式配置；阴极室氧化还原电位调节槽(8)，其用于调节阴极室内的电镀液的氧化还原电位；阳极室氧化还原电位调节槽(10)，用于调节阳极室内的电镀液的氧化还原电位；和电源部(36)，其使电流在被镀物与阳极之间流动。