公开(公告)号：CN105925946B

公开(公告)日：2018-11-06

申请号：CN201610294033.0

申请日：2016-05-06

Applicant: 辽宁科技大学

Inventor： 王亚男 ,  陈东旭 ,  陈琦 ,  周艳文 ,  张力元

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/06

Abstract: 一种利用磁控溅射法在铝合金表面制备TiN或CrN薄膜的方法。本发明涉及利用等离子体增强平衡磁控溅射装置，使用Ti、Cr金属靶，在铝合金表面分别制备含Ti和Cr原子过渡层的TiN和CrN薄膜。此方法不仅保证了铝合金基体的自身强度，同时也提高了铝合金表面的硬度及耐蚀性，并且薄膜与基体结合力良好，可以为铝合金表面改性工艺提供重要的参考依据。

公开(公告)号：CN105925946A

公开(公告)日：2016-09-07

申请号：CN201610294033.0

申请日：2016-05-06

Applicant: 辽宁科技大学

Inventor： 王亚男 ,  陈东旭 ,  陈琦 ,  周艳文 ,  张力元

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/06

CPC classification number: C23C14/352 ,  C23C14/0617 ,  C23C14/0641

Abstract: 一种利用磁控溅射法在铝合金表面制备TiN或CrN薄膜的方法。本发明涉及利用等离子体增强平衡磁控溅射装置，使用Ti、Cr金属靶，在铝合金表面分别制备含Ti和Cr原子过渡层的TiN和CrN薄膜。此方法不仅保证了铝合金基体的自身强度，同时也提高了铝合金表面的硬度及耐蚀性，并且薄膜与基体结合力良好，可以为铝合金表面改性工艺提供重要的参考依据。