公开(公告)号：CN107916407A

公开(公告)日：2018-04-17

申请号：CN201711124561.2

申请日：2017-11-14

Applicant: 辽宁大学

Inventor： 王绩伟 ,  张涛 ,  卢雪梅 ,  范晓星 ,  谭天亚 ,  曹硕 ,  徐攀峰 ,  敖韵琪 ,  高寒 ,  赵鹏飞

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/16 ,  C23C14/08 ,  C23C14/58

CPC classification number: C23C14/35 ,  C23C14/088 ,  C23C14/165 ,  C23C14/5806

Abstract: 本发明公开一种表面颗粒均匀银基底的制备方法。分为基片准备、磁控溅射、氮气氛围退火和保存四个步骤。第一步为切割硅片至规格尺寸，分别经过丙酮、乙醇、氢氟酸、水浸泡洗涤来去除有机物和氧化层，用氮气枪吹干备用。第二步为将处理好的硅片放入溅射室内，采用设定的功率和时间进行溅射，采用重复交替的方式的溅射钛酸钡和银，得到多层银和钛酸钡混合的结构。第三步为将溅射好的硅片移入管式炉中，在通氮气的保护下进行退火处理。第四步为将退火后的样品在真空条件下保存。经过以上四个步骤，即可获得表面颗粒均匀的银基底。