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公开(公告)号:CN104501946B
公开(公告)日:2018-01-16
申请号:CN201410364162.3
申请日:2014-07-29
Applicant: 超科技公司
IPC: G01J1/42
CPC classification number: G01J1/0407 , G01J1/0414 , G01J1/0477 , G01J1/4257 , G01J2001/0481 , G01J2001/4261 , G02B5/04 , G02B27/108
Abstract: 本发明涉及用于测量高强度光束的系统和方法,公开了用于测量光束的强度特性的系统和方法。所述方法包括将光束引导到包括由两个透明板夹在中间的薄棱镜的棱镜组件中,以及由全内反射表面将光束的一部分反射到积分球,同时将光束的剩余部分通过两个透明板发射到光束收集器。方法还包括检测由积分球捕获的光束并且根据所检测的光束确定光束的强度特性。
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公开(公告)号:CN104501946A
公开(公告)日:2015-04-08
申请号:CN201410364162.3
申请日:2014-07-29
Applicant: 超科技公司
IPC: G01J1/42
CPC classification number: G01J1/0407 , G01J1/0414 , G01J1/0477 , G01J1/4257 , G01J2001/0481 , G01J2001/4261 , G02B5/04 , G02B27/108
Abstract: 本发明涉及用于测量高强度光束的系统和方法,公开了用于测量光束的强度特性的系统和方法。所述方法包括将光束引导到包括由两个透明板夹在中间的薄棱镜的棱镜组件中,以及由全内反射表面将光束的一部分反射到积分球,同时将光束的剩余部分通过两个透明板发射到光束收集器。方法还包括检测由积分球捕获的光束并且根据所检测的光束确定光束的强度特性。
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公开(公告)号:CN105632904A
公开(公告)日:2016-06-01
申请号:CN201510813393.2
申请日:2015-11-23
Applicant: 超科技公司
IPC: H01L21/268 , H01L21/67
CPC classification number: H01L21/268 , B23K26/0626 , B23K26/066 , B23K26/352 , B23K2103/56 , H01L21/2636 , H01L21/67115
Abstract: 本发明涉及用于缺陷退火与掺杂物活化的高效率线形成光学系统及方法。该系统包括基于CO2的线形成系统,该线形成系统被配置以在晶片表面形成第一线图像,所述第一线图像具有2000W至3000W之间的光功率。在晶片表面上扫描该第一线图像以局部地将温度提高至缺陷退火温度。系统能够包括可见波长的基于二极管的线形成系统,该线形成系统形成能够与第一线图像一起扫描以局部地将晶片表面温度从缺陷退火温度提高至尖峰退火温度的第二线图像。使用可见波长的尖峰退火减低了不利的图案效应并且提高了温度均匀度以及退火均匀度。
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