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公开(公告)号：CN101171548B
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：CN200680015628.2
申请日：2006-03-31
Applicant: 赛康IP有限责任公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: B41C1/00 , B41J2/442 , B41J2/47 , G02B19/0028 , G02B19/0057 , G02B19/0095 , G02B27/0994
Abstract: 涉及一种具有光源(2)、光调制器(4)和光耦合单元(3)的曝光装置，其中在曝光要曝光的材料所需频谱范围内的射线强度以特别简单和低成本的方式被优化，本发明建议，光源(2)包括至少一个激光二极管(7)。
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