一种用于精密电镜分析仪器的等离子清洗装置

    公开(公告)号:CN111952143A

    公开(公告)日:2020-11-17

    申请号:CN202010862235.7

    申请日:2020-08-25

    Abstract: 本发明公开了一种用于精密电镜分析仪器的等离子清洗装置,包括电镜分析仪器腔体,电镜分析仪器腔体分别与真空规、RGA分析器、QCM膜厚控制仪和抽气泵连接,电镜分析仪器腔体还连接有等离子发生器,等离子发生器的输出端与电镜分析仪器腔体之间的连接管道上设置有朗缪尔探针,用以测量等离子发生器放电时产生的等离子参数,等离子发生器输出端的顶部设置有漏气阀,等离子发生器的输入端通过射频线与射频源连接。该用于精密电镜分析仪器的等离子清洗装置可以根据需要清洗腔体的类型和尺寸选择合适的放电功率,从而达到清洗污染物的目的,适用性更强;采用射频源激励产生等离子体对腔体内部进行清洗,对清洗腔体的内壁不会产生损伤。

    一种用于精密电镜分析仪器的等离子清洗装置

    公开(公告)号:CN212570921U

    公开(公告)日:2021-02-19

    申请号:CN202021791983.2

    申请日:2020-08-25

    Abstract: 本实用新型公开了一种用于精密电镜分析仪器的等离子清洗装置,包括电镜分析仪器腔体,电镜分析仪器腔体分别与真空规、RGA分析器、QCM膜厚控制仪和抽气泵连接,电镜分析仪器腔体还连接有等离子发生器,等离子发生器的输出端与电镜分析仪器腔体之间的连接管道上设置有朗缪尔探针,用以测量等离子发生器放电时产生的等离子参数,等离子发生器输出端的顶部设置有漏气阀,等离子发生器的输入端通过射频线与射频源主体连接。该用于精密电镜分析仪器的等离子清洗装置可以根据需要清洗腔体的类型和尺寸选择合适的放电功率,从而达到清洗污染物的目的,适用性更强;采用射频源激励产生等离子体对腔体内部进行清洗,对清洗腔体的内壁不会产生损伤。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种方形离子源
    6.
    实用新型

    公开(公告)号:CN213781983U

    公开(公告)日:2021-07-23

    申请号:CN202023252502.3

    申请日:2020-12-29

    Abstract: 本实用新型公开了一种方形离子源,包括方形外壳,方形外壳的上部固定有前面板,前面板上设置有灯罩,方形外壳的下部固定有底板,底板的表面设置有调节杆,调节杆包括穿过底板并与其固定连接的固定壳、设置在固定壳内部并与其滑动设置的推动杆,方形外壳的内部中部设置有外壳固定环,外壳固定环与前面板通过支撑杆固定连接,外壳固定环与前面板之间设置有聚焦器固定环,且聚焦器固定环相对于支撑杆滑动设置,聚焦器固定环的内壁固定连接有聚焦器,推动杆与聚焦器固定连接。本实用新型前端增加固定板,紫外灯嵌入安装,安装更为牢固、聚焦器可前后调节、散热效果更好。

Patent Agency Ranking