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公开(公告)号:CN114908336A
公开(公告)日:2022-08-16
申请号:CN202210094985.3
申请日:2022-01-26
Applicant: 贵州理工学院
Abstract: 本发明公开了一种管式PECVD增强气相沉积制备微晶硅的工艺,将四氟化硅、氢气、保护气,通过脱氧管,除去其中的氧气。脱氧后的混合气体通入高真空石英管,在等离子功率50‑400W,加热炉温度100‑600度下,气相沉积得到微晶硅,产生的氟化氢、剩余四氟化硅气体通过碱液吸收洗涤。本发明利用磷矿伴生资源四氟化硅为原料,将大大提升磷矿伴生资源的有效利用,减少资源浪费。
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