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公开(公告)号：CN101101400A
公开(公告)日：2008-01-09
申请号：CN200710136866.5
申请日：2004-06-04
Applicant: 触媒化成工业株式会社
IPC: G02F1/1333 , C09D183/04
CPC classification number: C09D183/04 , C09D183/14 , G02F1/133345
Abstract: 本发明提供一种液晶显示盒，它是在至少一侧的基板的表面依次层合透明电极膜、透明被膜和定向膜所形成的一对带有透明电极的基板隔开指定的间隔配置，使各透明电极膜之间对置，在通过该对带有透明电极的基板之间所留出的间隙中封入液晶的液晶显示盒，其中透明被膜为由水和有机溶剂构成的混合溶剂中分散特定的基质形成成分得到的透明被膜形成用涂布液形成的被膜。
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公开(公告)号：CN100410341C
公开(公告)日：2008-08-13
申请号：CN200480014648.9
申请日：2004-06-04
Applicant: 触媒化成工业株式会社
IPC: C09D183/00 , B32B27/28 , G02B5/20 , G02F1/1333
CPC classification number: C09D183/04 , C09D183/14 , G02F1/133345
Abstract: 本发明提供可以形成耐擦伤性、耐酸性、耐碱性、耐水性、绝缘性优异，与电极膜或者由聚酰亚胺等疏水性强的树脂构成的膜(定向膜)等的粘合性也良好，而且韧性、柔性优异的透明被膜的透明被膜形成用涂布液。本发明的透明被膜形成用涂布液是在由水和有机溶剂构成的混合溶剂中分散基质形成成分得到的透明被膜形成用涂布液，其特征在于该基质形成成分含具有2个以上水解性基团的有机硅化合物或其水解产物。
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公开(公告)号：CN100398583C
公开(公告)日：2008-07-02
申请号：CN200380102613.6
申请日：2003-10-27
Applicant: 触媒化成工业株式会社 , 富士通株式会社
IPC: C08G77/08 , C09D183/04 , C09D183/02 , C09D5/25 , H01L21/31 , C01B33/12
CPC classification number: H01L21/02126 , C08G77/08 , C09D183/04 , H01L21/02216 , H01L21/02282 , H01L21/3122 , H01L21/316
Abstract: 本发明提供一种用于形成具有2.5或2.5以下较小的介电常数、杨氏模量为6.0GPa或6.0GPa以上、且疏水性优良的低介电常数无定形二氧化硅类被膜的涂布液及其配制方法。该涂布液为含有以如下方法获得的硅化合物的溶液：将原硅酸四烷基酯(TAOS)及特定烷氧基硅烷(AS)在氢氧化四烷基铵(TAAOH)的存在下水解而得到硅化合物；或使原硅酸四烷基酯(TAOS)在氢氧化四烷基铵(TAAOH)的存在下水解或部分水解后，与特定烷氧基硅烷(AS)或其水解产物或部分水解产物混合，再根据需要使其部分或全部水解而得到硅化合物。另外，该涂布液是将上述成分按特定比例混合，并在特定的操作条件下进行配制的。
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公开(公告)号：CN1708563A
公开(公告)日：2005-12-14
申请号：CN200380102613.6
申请日：2003-10-27
Applicant: 触媒化成工业株式会社 , 富士通株式会社
IPC: C09D183/04 , C09D183/02 , C09D5/25 , C01B33/12
CPC classification number: H01L21/02126 , C08G77/08 , C09D183/04 , H01L21/02216 , H01L21/02282 , H01L21/3122 , H01L21/316
Abstract: 本发明提供一种用于形成具有2.5或2.5以下较小的介电常数、杨氏模量为6.0GPa或6.0GPa以上、且疏水性优良的低介电常数无定形二氧化硅类被膜的涂布液及其配制方法。该涂布液为含有以如下方法获得的硅化合物的溶液：将原硅酸四烷基酯(TAOS)及特定烷氧基硅烷(AS)在氢氧化四烷基铵(TAAOH)的存在下水解而得到硅化合物；或使原硅酸四烷基酯(TAOS)在氢氧化四烷基铵(TAAOH)的存在下水解或部分水解后，与特定烷氧基硅烷(AS)或其水解产物或部分水解产物混合，再根据需要使其部分或全部水解而得到硅化合物。另外，该涂布液是将上述成分按特定比例混合，并在特定的操作条件下进行配制的。
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公开(公告)号：CN100380608C
公开(公告)日：2008-04-09
申请号：CN200380102612.1
申请日：2003-10-27
Applicant: 触媒化成工业株式会社 , 富士通株式会社
IPC: H01L21/312 , C09D183/02 , C09D183/04 , H01L21/316
CPC classification number: C09D183/02 , C08G77/08 , H01L21/02126 , H01L21/02203 , H01L21/02216 , H01L21/02282 , H01L21/02337 , H01L21/316 , H01L21/31695
Abstract: 本发明提供一种具有低至2.5或2.5以下的介电常数、杨氏模量为6.0GPa或6.0GPa以上、且疏水性优良的低介电常数无定形二氧化硅类被膜及其形成方法。使原硅酸四烷基酯(TAOS)及特定烷氧基硅烷(AS)在氢氧化四烷基铵(TAAOH)的存在下水解而得到硅化合物，配制含有所得硅化合物的液态组合物。然后，将该液态组合物涂布在基板上，进行加热处理及烧制处理，得到被膜。以上述方法得到的被膜表面平滑，且其内部具有特定的微孔。
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公开(公告)号：CN1795244A
公开(公告)日：2006-06-28
申请号：CN200480014648.9
申请日：2004-06-04
Applicant: 触媒化成工业株式会社
IPC: C09D183/00 , B32B27/28 , G02B5/20 , G02F1/1333
CPC classification number: C09D183/04 , C09D183/14 , G02F1/133345
Abstract: 本发明提供可以形成耐擦伤性、耐酸性、耐碱性、耐水性、绝缘性优异，与电极膜或者由聚酰亚胺等疏水性强的树脂构成的膜(定向膜)等的粘合性也良好，而且韧性、柔性优异的透明被膜的透明被膜形成用涂布液。本发明的透明被膜形成用涂布液是在由水和有机溶剂构成的混合溶剂中分散基质形成成分得到的透明被膜形成用涂布液，其特征在于该基质形成成分含具有2个以上水解性基团的有机硅化合物或其水解产物。
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公开(公告)号：CN1708839A
公开(公告)日：2005-12-14
申请号：CN200380102612.1
申请日：2003-10-27
Applicant: 触媒化成工业株式会社 , 富士通株式会社
IPC: H01L21/312 , C09D183/02 , C09D183/04 , H01L21/316
CPC classification number: C09D183/02 , C08G77/08 , H01L21/02126 , H01L21/02203 , H01L21/02216 , H01L21/02282 , H01L21/02337 , H01L21/316 , H01L21/31695
Abstract: 本发明提供一种具有低至2.5或2.5以下的介电常数、杨氏模量为6.0GPa或6.0GPa以上、且疏水性优良的低介电常数无定形二氧化硅类被膜及其形成方法。使原硅酸四烷基酯(TAOS)及特定烷氧基硅烷(AS)在氢氧化四烷基铵(TAAOH)的存在下水解而得到硅化合物，配制含有所得硅化合物的液态组合物。然后，将该液态组合物涂布在基板上，进行加热处理及烧制处理，得到被膜。以上述方法得到的被膜表面平滑，且其内部具有特定的微孔。
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