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公开(公告)号:CN1307693A
公开(公告)日:2001-08-08
申请号:CN99807922.7
申请日:1999-06-18
Applicant: 西巴特殊化学品控股有限公司
Abstract: 公开了一类特别适合用作碱性可显影掩膜的组合物,包含(A)分子中含至少1个羧基的齐聚物或聚合物;(B)至少一种式Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ、Ⅳ、Ⅴ或Ⅵ的化合物,其中R1特别是苯基或烷基;R2是例如无取代或取代的C2-C12链烷酰基,或苯甲酰基;R3、R4、R5、R6和R7独立地是例如氢、C1-C12烷基、环己基或无取代或有取代的苯基,或是苄基、苯甲酰基、C2-C12链烷酰基或苯氧羰基;R8是例如氢或C1-C12烷基或基团(B);M是例如C1-C12亚烷基、亚环己基或亚苯基;M1特别是直连键或C1-C12亚烷氧基;Ar是5-或6员芳族杂环;(C)一种可光聚合的活性或非活性稀释剂;和(D)作为热固性组分的每个分子中含至少2个环氧基的环氧化合物。
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公开(公告)号:CN1299812A
公开(公告)日:2001-06-20
申请号:CN00135980.0
申请日:2000-12-15
Applicant: 西巴特殊化学品控股有限公司
IPC: C07C251/36 , C07C251/38 , C07C251/40 , C07C251/52 , C07C251/54 , C07C323/47 , C07D333/22 , G03F7/031 , C08F2/50
CPC classification number: C07D207/335 , A61K6/083 , B33Y70/00 , B41M3/003 , C07C251/66 , C07C251/68 , C07C317/32 , C07C323/47 , C07C327/30 , C07D209/86 , C07D333/20 , C07D335/16 , C07D339/08 , G03F7/0007 , G03F7/0045 , G03F7/031
Abstract: 结构式Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ、Ⅳ和/或Ⅴ的化合物,具体宜于在光刻胶应用领域中作为光引发剂,其中各基团定义如说明书所述。
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公开(公告)号:CN1252042C
公开(公告)日:2006-04-19
申请号:CN00135980.0
申请日:2000-12-15
Applicant: 西巴特殊化学品控股有限公司
IPC: C07C251/36 , C07C251/38 , C07C251/40 , C07C251/52 , C07C251/54 , C07C323/47 , C07D333/22 , G03F7/031 , C08F2/50
CPC classification number: C07D207/335 , A61K6/083 , B33Y70/00 , B41M3/003 , C07C251/66 , C07C251/68 , C07C317/32 , C07C323/47 , C07C327/30 , C07D209/86 , C07D333/20 , C07D335/16 , C07D339/08 , G03F7/0007 , G03F7/0045 , G03F7/031
Abstract: 结构式I、II、III、IV和/或V的化合物,具体宜于在光刻胶应用领域中作为光引发剂:其中各基团定义如说明书所述。
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公开(公告)号:CN1203374C
公开(公告)日:2005-05-25
申请号:CN99807922.7
申请日:1999-06-18
Applicant: 西巴特殊化学品控股有限公司
IPC: G03F7/027
Abstract: 公开了一类特别适合用作碱性可显影掩膜的组合物,包含(A)分子中含至少1个羧基的齐聚物或聚合物;(B)至少一种式I、II、III、IV、V或VI的化合物,其中R1特别是苯基或烷基;R2是例如无取代或取代的C2-C12链烷酰基,或苯甲酰基;R3、R4、R5、R6和R7独立地是例如氢、C1-C12烷基、环己基或无取代或有取代的苯基,或是苄基、苯甲酰基、C2-C12链烷酰基或苯氧羰基;R8是例如氢或C1-C12烷基或基团(B);M是例如C1-C12亚烷基、亚环己基或亚苯基;M1特别是直连键或C1-C12亚烷氧基;Ar是5-或6员芳族杂环;(C)一种可光聚合的活性或非活性稀释剂;和(D)作为热固性组分的每个分子中含至少2个环氧基的环氧化合物。
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