低梯度大通流冲击稳定性的电阻片材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN113716952A

    公开(公告)日:2021-11-30

    申请号:CN202111061132.1

    申请日:2021-09-10

    Abstract: 本发明属于电阻电气元件技术领域,涉及一种低梯度大通流冲击稳定性的电阻片材料及其制备方法,能够改善大电流冲击后低梯度电阻片的稳定性。电阻片材料包括如下原料:ZnO:80.0~93.0wt.%,Bi2O3:2.0~6.0wt.%,Sb2O3:1.0~6.0wt.%,NiO:0~6.0wt.%,Cr2O3:0~2.0wt.%,Mn3O4:0.5~5.0wt.%,Co3O4:0.5~5.0wt.%,TiO2:0.1~0.5wt.%,含Ag和B的玻璃粉(银玻璃):0.5~2.9wt.%。通过相应的制备方法,实现低梯度、大通流且稳定性较好的电阻片的制备,克服了现有大电流浪涌冲击对ZnO晶界势垒产生影响而导致的氧化锌压敏电阻退化行为。

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