低梯度大通流冲击稳定性的电阻片材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN113716952A

    公开(公告)日:2021-11-30

    申请号:CN202111061132.1

    申请日:2021-09-10

    Abstract: 本发明属于电阻电气元件技术领域,涉及一种低梯度大通流冲击稳定性的电阻片材料及其制备方法,能够改善大电流冲击后低梯度电阻片的稳定性。电阻片材料包括如下原料:ZnO:80.0~93.0wt.%,Bi2O3:2.0~6.0wt.%,Sb2O3:1.0~6.0wt.%,NiO:0~6.0wt.%,Cr2O3:0~2.0wt.%,Mn3O4:0.5~5.0wt.%,Co3O4:0.5~5.0wt.%,TiO2:0.1~0.5wt.%,含Ag和B的玻璃粉(银玻璃):0.5~2.9wt.%。通过相应的制备方法,实现低梯度、大通流且稳定性较好的电阻片的制备,克服了现有大电流浪涌冲击对ZnO晶界势垒产生影响而导致的氧化锌压敏电阻退化行为。

    不含氧化铬和氧化硅高性能ZnO压敏电阻的制备方法及ZnO压敏电阻

    公开(公告)号:CN113651610A

    公开(公告)日:2021-11-16

    申请号:CN202110949933.5

    申请日:2021-08-18

    Inventor: 裴广强 叶雯 张鹏

    Abstract: 本发明涉及一种不含氧化铬和氧化硅高性能ZnO压敏电阻及其制备方法,其目的是解决现有ZnO压敏电阻电位梯度较低,在高浪涌冲击下通流能力弱,且二者不能同时提高的技术问题。由于氧化铬和氧化硅的价格均高于氧化锌,本发明去除了ZnO压敏电阻原料中的氧化铬和氧化硅,并寻找到了一个无氧化铬和氧化硅掺杂的原料配比以降低生产成本,通过减少组分和设置特定含量的方式,实现了电位梯度和通流能力的同时提高,所制备的无氧化铬和氧化硅掺杂的ZnO压敏电阻,稳定性较好,电位梯度提高到了220~240V/mm,10kA 8/20μs雷电波残压比范围为1.75~1.80,方波和4/10大电流通流能力强,还可通过重复转移电荷0.5C测试,能量吸收参数达到280~300J/cm3,可以满足更多场合的应用要求。

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