内外场掩埋目标散射测量反演方法及装置

    公开(公告)号:CN116256750A

    公开(公告)日:2023-06-13

    申请号:CN202310125546.9

    申请日:2023-02-16

    Abstract: 本发明公开了内外场掩埋目标散射测量反演方法及装置,包括依次连接的操作电脑、矢量网络分析仪、功率放大器、收发天线和支架,收发天线下方放置有低散射薄膜材料的盒子,盒子外围设有微波暗室,微波暗室内壁铺有一层尖劈形状的吸波材料;主要步骤为采集需要测量掩埋目标场地土壤,制备实验模型;将埋地目标置于土壤中进行测量、计算和分析并收集参数值;编写初始神经网络,对埋地目标参数进行反演;将测量的实验数据代入神经网络,得到该土壤下训练好的神经网络模型;本发明具有以FDTD方法和BP神经网络作为核心算法,利用电磁散射测量和机器学习方法共同解决埋地目标进行散射测量的特点。

    箔条云测量场景下的定标对准误差修正方法

    公开(公告)号:CN117784042A

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202311620151.2

    申请日:2023-11-30

    Abstract: 本发明公开了一种箔条云测量场景下的定标对准误差修正方法,1、根据箔条云类型确定测量频率和仪器;2、搭建测量系统;3、初步对准,分析计算定标误差;4、移动天线,交叉十字扫描测量定标体,得到测量数据;5、获取理论标准数据;6、对标准结果与实验结果进行特征检测;7、对所有可能点中的离群异常值进行筛除;8、计算置信点集内所有点的最小外切圆,得到最终对准位置(x0,y0,z0);9、根据对准位置(x0,y0,z0),定义定标体对准误差因子β并计算;10、结果分析。本发明通过SBR‑SPCC‑LOF混合方法,通过让天线在非对准位置对进行十字扫描,实现了基于电磁学的定标体对准位置寻找,解决了当前光学对准手段在箔条云测量场景下的不适用性问题。

    箔条云测量场景下的定标对准误差修正方法

    公开(公告)号:CN117784042B

    公开(公告)日:2024-06-21

    申请号:CN202311620151.2

    申请日:2023-11-30

    Abstract: 本发明公开了一种箔条云测量场景下的定标对准误差修正方法,1、根据箔条云类型确定测量频率和仪器;2、搭建测量系统;3、初步对准,分析计算定标误差;4、移动天线,交叉十字扫描测量定标体,得到测量数据;5、获取理论标准数据;6、对标准结果与实验结果进行特征检测;7、对所有可能点中的离群异常值进行筛除;8、计算置信点集内所有点的最小外切圆,得到最终对准位置(x0,y0,z0);9、根据对准位置(x0,y0,z0),定义定标体对准误差因子β并计算;10、结果分析。本发明通过SBR‑SPCC‑LOF混合方法,通过让天线在非对准位置对进行十字扫描,实现了基于电磁学的定标体对准位置寻找,解决了当前光学对准手段在箔条云测量场景下的不适用性问题。

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