一种基于超快激光刻蚀的LTCC基板制作方法

    公开(公告)号:CN109905970A

    公开(公告)日:2019-06-18

    申请号:CN201910065071.2

    申请日:2019-01-23

    Abstract: 本发明属于半导体混合集成电路技术领域,涉及一种基于超快激光刻蚀的LTCC基板制作方法,基于传统的LTCC基板丝网印刷工艺,在生瓷片完成导体布线印刷后,对其进行第一次超快激光刻蚀;在LTCC基板烧结完成后,对烧结后的熟瓷片的导体布线进行第二次超快激光刻蚀;第一次超快激光刻蚀有导体布线宽度精度刻蚀、厚度精度刻蚀以及通孔填充精度刻蚀三种方式,可按照实际要求选择进行。本发明基于LTCC基板丝网印刷工艺,通过加入两次超快激光刻蚀,提高了导体阻抗加工精度,使刻蚀后的导体布线达到精度要求。

    一种实现厚膜基板正反面图案的互连方法

    公开(公告)号:CN113643985A

    公开(公告)日:2021-11-12

    申请号:CN202110904204.8

    申请日:2021-08-06

    Abstract: 本发明提供了一种实现厚膜基板正反面图案的互连方法,该方法不仅可以实现使用普通印刷机制作互连通孔,在厚膜基板正反面图形的同时,实现通孔互连,能够提高生产效率,本发明对厚膜基板的正反两面的基片通孔中分别进行印刷,使得基片通孔侧壁金属化正反线路的互连得到了巩固,提高了基片通孔侧壁金属化正反线路之间的互连性。同时,还为制作其他通孔互连基板搭建了工艺平台,通过更换支撑模具,可以将此方法快速有效地推广到其他产品上,具有很好的实用性和经济价值。

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