一种纳米透镜阵列及其制备方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115933019A

    公开(公告)日:2023-04-07

    申请号:CN202211696916.6

    申请日:2022-12-28

    Abstract: 本发明公开一种纳米透镜阵列及其制备方法,其中一种纳米透镜阵列的其制备方法包括如下步骤:在衬底的一个表面上涂覆光刻胶,用具有圆孔阵列的掩膜板对所述光刻胶进行遮挡,然后对所述光刻胶进行曝光处理和显影处理,在所述衬底上得到具有圆孔阵列的光刻胶薄膜;对具有圆孔阵列的所述光刻胶薄膜的所述衬底镀金属层;将所述光刻胶薄膜从所述衬底剥离,得到金属圆盘阵列;在具有所述金属圆盘阵列的所述衬底进行退火处理,以使所述金属圆盘阵列熔化并缩聚成金属球体阵列,所述金属球体阵列作为衬底的刻蚀掩膜;对具有所述金属球体阵列的所述衬底进行干法刻蚀,得到纳米透镜阵列。该制备方法制备的纳米透镜阵列的成本低,且操作简单。

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