获得过包晶铸造TiAl合金近片层组织的热处理方法

    公开(公告)号:CN109628867A

    公开(公告)日:2019-04-16

    申请号:CN201910080454.7

    申请日:2019-01-28

    CPC classification number: C22F1/183

    Abstract: 一种获得过包晶铸造TiAl合金近片层组织的热处理方法,通过热等静压处理、组织调控热处理和稳定化热处理,得到过包晶铸造TiAl合金近片层组织。本发明通过对热处理过程中保温温度、保温时间、加热及冷却速度的控制,实现了对具有过包晶凝固特征的铸造TiAl合金组织的控制,并获得特定的近片层组织,克服了现有技术中存在的片层结构溶解退化失去了原有的各向异性、避免了淬火导致的应力及裂纹产生所造成的不良影响和生产周期长的不足。

    一种适用于800℃的含钌多组元TiAl合金

    公开(公告)号:CN112063885B

    公开(公告)日:2021-12-14

    申请号:CN202010768843.1

    申请日:2020-08-03

    Abstract: 本发明公开了一种适用于800℃的含钌多组元TiAl合金,该合金由Al、Nb、Cr、Ru和Ti元素组成,其中Al的含量为47~49at.%,Nb为4.0at.%,Cr为2.0at.%,Ru为0.3~1.0at.%,其余为Ti,该合金通过铸锭冶炼方式获得。与Ta,Nb及Cr等常见的合金化元素不同,除固溶强化外,由于Ru元素的固溶度较低。因此,本发明在微量添加Ru的情况下即可析出细小的τ1相颗粒,形成第二相强化,进而提高其服役温度至800℃。

    获得过包晶铸造TiAl合金近片层组织的热处理方法

    公开(公告)号:CN109628867B

    公开(公告)日:2020-09-08

    申请号:CN201910080454.7

    申请日:2019-01-28

    Abstract: 一种获得过包晶铸造TiAl合金近片层组织的热处理方法,通过热等静压处理、组织调控热处理和稳定化热处理,得到过包晶铸造TiAl合金近片层组织。本发明通过对热处理过程中保温温度、保温时间、加热及冷却速度的控制,实现了对具有过包晶凝固特征的铸造TiAl合金组织的控制,并获得特定的近片层组织,克服了现有技术中存在的片层结构溶解退化失去了原有的各向异性、避免了淬火导致的应力及裂纹产生所造成的不良影响和生产周期长的不足。

    一种底部拔塞式真空感应熔炼浇注控制装置

    公开(公告)号:CN105081302A

    公开(公告)日:2015-11-25

    申请号:CN201510426560.8

    申请日:2015-07-20

    Abstract: 一种底部拔塞式真空感应熔炼浇注控制装置,所述拔塞机构安装在支架上。铸型位于所述堵头的下方。拔塞机构中的堵头安装在坩埚的浇注孔内,并通过拔塞杆与丝杠配合。本发明采用底注式浇注,无需电极及坩埚倾转机构,降低了设备的结构复杂性和熔炼浇注工序的繁琐性。同时,由于拔塞杆不与熔体接触,缩小了熔体与坩埚的接触时间和接触面积,降低了金属与熔体的反应程度。并且金属熔体的浇注位置准确定位于下方,不会产生飞溅和漏浇情况。

    一种适用于800℃的含钌多组元TiAl合金

    公开(公告)号:CN112063885A

    公开(公告)日:2020-12-11

    申请号:CN202010768843.1

    申请日:2020-08-03

    Abstract: 本发明公开了一种适用于800℃的含钌多组元TiAl合金,该合金由Al、Nb、Cr、Ru和Ti元素组成,其中Al的含量为47~49at.%,Nb为4.0at.%,Cr为2.0at.%,Ru为0.3~1.0at.%,其余为Ti,该合金通过铸锭冶炼方式获得。与Ta,Nb及Cr等常见的合金化元素不同,除固溶强化外,由于Ru元素的固溶度较低。因此,本发明在微量添加Ru的情况下即可析出细小的τ1相颗粒,形成第二相强化,进而提高其服役温度至800℃。

    一种底部拔塞式真空感应熔炼浇注控制装置

    公开(公告)号:CN105081302B

    公开(公告)日:2017-05-17

    申请号:CN201510426560.8

    申请日:2015-07-20

    Abstract: 一种底部拔塞式真空感应熔炼浇注控制装置,所述拔塞机构安装在支架上。铸型位于所述堵头的下方。拔塞机构中的堵头安装在坩埚的浇注孔内,并通过拔塞杆与丝杠配合。本发明采用底注式浇注,无需电极及坩埚倾转机构,降低了设备的结构复杂性和熔炼浇注工序的繁琐性。同时,由于拔塞杆不与熔体接触,缩小了熔体与坩埚的接触时间和接触面积,降低了金属与熔体的反应程度。并且金属熔体的浇注位置准确定位于下方,不会产生飞溅和漏浇情况。

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