一种不同类型高度图控制浅浮雕模型生成方法

    公开(公告)号:CN114022610A

    公开(公告)日:2022-02-08

    申请号:CN202111171595.3

    申请日:2021-10-08

    Abstract: 本发明涉及一种不同类型高度图控制浅浮雕模型生成方法,属于计算机图形学技术领域。本发明结合图像处理中的掩模操作和三维建模技术实现数字浅浮雕的生成,该方法利用掩模操作对待处理的图像进行处理,融合图像处理技术,控制所要生成浮雕不同部位的高度,得到控制浮雕生成效果的高度图;利用基于高斯混合模型的滚动引导法向滤波进行法向分解,利用基于SfG的局部调整和全局重建的方法进行曲面重建;利用拉普拉斯算子及双边滤波器进行去噪平滑处理,最终生成不同高度风格的浅浮雕模型。该发明主要通过对细节特征及结构特征相关参数的调整来实现轮廓清晰且细节丰富的浅浮雕模型。

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