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公开(公告)号：CN113330345A
公开(公告)日：2021-08-31
申请号：CN201980090132.9
申请日：2019-12-19
Applicant: 莱卡微系统CMS有限责任公司
Abstract: 一种用于显微镜(102)的光学系统(100)，包括：望远镜系统(104)，该望远镜系统具有：光学的矫正单元(804)，其可调节，用来矫正球面像差；变焦光学件(114)，其可在预定的放大率范围内调节，用来使得所述望远镜系统(104)的放大率适配于两个折射率的比例，其中的一个折射率属于物体侧，另一个折射率属于图像侧。所述望远镜系统(104)通过其中含有的变焦光学件(114)，在整个放大率范围内，无论相对于所述物体侧，还是相对于所述图像侧，都远心地设计。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113330345B
公开(公告)日：2024-11-29
申请号：CN201980090132.9
申请日：2019-12-19
Applicant: 莱卡微系统CMS有限责任公司
Abstract: 一种用于显微镜(102)的光学系统(100)，包括：望远镜系统(104)，该望远镜系统具有：光学的矫正单元(804)，其可调节，用来矫正球面像差；变焦光学件(114)，其可在预定的放大率范围内调节，用来使得所述望远镜系统(104)的放大率适配于两个折射率的比例，其中的一个折射率属于物体侧，另一个折射率属于图像侧。所述望远镜系统(104)通过其中含有的变焦光学件(114)，在整个放大率范围内，无论相对于所述物体侧，还是相对于所述图像侧，都远心地设计。
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公开(公告)号：CN114303086A
公开(公告)日：2022-04-08
申请号：CN201980099824.X
申请日：2019-08-27
Applicant: 莱卡微系统CMS有限责任公司
Abstract: 提供用于显微镜的光学成像设备，包括配置为收集来自物体的检测光并将检测光引导到光路中的物镜，以及包括配置为与所述物镜相互作用以选择性地在第一操作模式和第二操作模式中对物体进行光学成像的多个透镜元件的光学系统。光学系统包括与第一操作模式相关联的配置为以第一倍率形成物体的第一图像的第一光学子系统。光学系统包括与第二操作模式相关联的配置为以第二倍率形成物体的第二图像的第二光学子系统，第二倍率小于第一倍率。第二光学子系统包括可插入到光学路径中以用于选择第二操作模式的光学模块。光学模块包括具有正折射力的透镜元件，当插入光路中时通过比光学系统的其他透镜元件更靠近物镜的出射光瞳使得第二倍率小于第一倍率。
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公开(公告)号：CN114303086B
公开(公告)日：2025-05-23
申请号：CN201980099824.X
申请日：2019-08-27
Applicant: 莱卡微系统CMS有限责任公司
Abstract: 提供用于显微镜的光学成像设备，包括配置为收集来自物体的检测光并将检测光引导到光路中的物镜，以及包括配置为与所述物镜相互作用以选择性地在第一操作模式和第二操作模式中对物体进行光学成像的多个透镜元件的光学系统。光学系统包括与第一操作模式相关联的配置为以第一倍率形成物体的第一图像的第一光学子系统。光学系统包括与第二操作模式相关联的配置为以第二倍率形成物体的第二图像的第二光学子系统，第二倍率小于第一倍率。第二光学子系统包括可插入到光学路径中以用于选择第二操作模式的光学模块。光学模块包括具有正折射力的透镜元件，当插入光路中时通过比光学系统的其他透镜元件更靠近物镜的出射光瞳使得第二倍率小于第一倍率。
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公开(公告)号：CN112748562B
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202011170868.8
申请日：2020-10-28
Applicant: 莱卡微系统CMS有限责任公司
IPC: G02B21/24
Abstract: 显微镜包括被配置为对包括盖玻片的样品进行成像的光学成像系统、显微镜驱动、位置敏感检测器、光学测量系统和控制单元，所述光学成像系统包括可调校正装置，显微镜驱动被配置为沿光学成像系统的光轴调节盖玻片和光学成像系统之间的距离。光学测量系统被配置为形成第一和第二测量光束，将测量光束以相对于光学成像系统的光轴的不同距离引导到光学成像系统的入射光瞳中，接收由测量光束在盖玻片的表面上的部分反射通过光学成像系统产生的第一和第二反射光束，以及将第一和第二反射光束引导到位置敏感检测器上。控制单元被配置为记录第一和第二反射光束在位置敏感检测器上的位置，并且基于所记录的第一和第二反射光束的位置确定像差。
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公开(公告)号：CN112748562A
公开(公告)日：2021-05-04
申请号：CN202011170868.8
申请日：2020-10-28
Applicant: 莱卡微系统CMS有限责任公司
IPC: G02B21/24
Abstract: 显微镜包括被配置为对包括盖玻片的样品进行成像的光学成像系统、显微镜驱动、位置敏感检测器、光学测量系统和控制单元，所述光学成像系统包括可调校正装置，显微镜驱动被配置为沿光学成像系统的光轴调节盖玻片和光学成像系统之间的距离。光学测量系统被配置为形成第一和第二测量光束，将测量光束以相对于光学成像系统的光轴的不同距离引导到光学成像系统的入射光瞳中，接收由测量光束在盖玻片的表面上的部分反射通过光学成像系统产生的第一和第二反射光束，以及将第一和第二反射光束引导到位置敏感检测器上。控制单元被配置为记录第一和第二反射光束在位置敏感检测器上的位置，并且基于所记录的第一和第二反射光束的位置确定像差。
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