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公开(公告)号：CN118426155A
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN202410127498.1
申请日：2024-01-30
Applicant: 莱卡微系统CMS有限责任公司
Inventor： 康奈尔·彼得·龚休尔 , 亚历山大·韦斯
IPC: G02B21/00
Abstract: 一种共焦显微镜包括：照明单元，用于产生照明光束；成像光学器件，用于接收检测光并将其转发到共焦显微镜的其他元件；以及扫描单元，用于将照明光束转向到成像光学器件中并使其偏转以生成扫描照明，并且接收来自成像光学器件的检测光并使其转向到共焦显微镜的检测光路。共焦显微镜包括布置在检测光路中的传感器元件；布置在检测光路中且位于传感器元件上游的孔栅；以及布置在检测光路中的可调节光偏转元件，光偏转元件用于使检测光穿过孔栅转向到传感器元件上。共焦显微镜包括控制单元，其用于控制扫描单元以调整共焦显微镜，使得照明光束转向到测试对象上，以及控制光偏转元件，使得由传感器元件检测到的从测试对象发出的检测光的强度被优化。
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公开(公告)号：CN113677979B
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202080028218.1
申请日：2020-03-25
Applicant: 莱卡微系统CMS有限责任公司
Abstract: 一种光片显微镜，其包括：样本空间，在该样本空间中可布置盖玻片或载玻片，该盖玻片或载玻片具有限定部分反射界面的表面；光学系统，该光学系统带有面向所述盖玻片或载玻片的物镜；被设计用于产生光片的照明机构；传感器；和处理器。所述光片显微镜形成用于检测测量变量的测量装置。该测量装置被设计用于，将所述光片穿过所述光学系统倾斜入射地转向到所述盖玻片或载玻片上，通过部分地在所述界面处反射所述光片来产生反射光束，接收穿过所述光学系统的反射光束并转向到所述传感器上。所述传感器被设计用于检测所述反射光束的强度和/或入射位置。所述处理器被设计用于基于所述反射光束的所检测的强度和/或入射位置来确定测量变量。
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公开(公告)号：CN112867918B
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN201980068865.2
申请日：2019-10-11
Applicant: 莱卡微系统CMS有限责任公司
IPC: G01N21/41
Abstract: 介绍一种用于确定显微镜(10、78)中的光学介质的折射率的方法，该显微镜具有面向样本空间(14)的物镜(12)，其中，具有待确定的折射率的所述光学介质是两种光学介质(26、28)之一，这些光学介质在所述样本空间(14)中与盖玻片或载玻片(16)的两个相反的表面(64、68)邻接，由此形成两个部分反射的界面，这些界面相距所述物镜(12)以不同的间距布置。在该方法中，使得测量光束(34)透过所述物镜(12)在倾斜地入射情况下转向至所述盖玻片或载玻片(16)，产生两个在空间上彼此分开的反射光束(54a、54b)，其方式为，使得所述测量光束(34)分别部分地在两个所述界面上反射，使得两个所述反射光束(54a、54b)被所述物镜(12)接收，并且转向至对位置灵敏的探测器(60)，借助所述对位置灵敏的探测器(36)来检测两个所述反射光束(54a、54b)的强度，基于两个所述反射光束(54a、54b)的所检测的强度来计算所述光学介质的折射率。
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公开(公告)号：CN113985594A
公开(公告)日：2022-01-28
申请号：CN202110783847.1
申请日：2021-07-12
Applicant: 莱卡微系统CMS有限责任公司
Abstract: 一种显微镜(100)包括：光学系统(102)，其包括被设计用于具有预定折射率的浸没介质(102)的浸没物镜(106)；孔径光阑(118)；以及处理器(116)，其配置成设定无浸没成像模式，其中所述光学系统(102)在没有所述浸没介质(102)的情况下操作，其中所述处理器(116)进一步配置成在所述无浸没成像模式下控制所述孔径光阑(118)，以将所述浸没物镜(106)的数值孔径设定为低于所述数值孔径的标称值的减小值，当使用所述浸没介质(108)操作所述光学系统(102)而不借助所述孔径光阑(118)减小所述数值孔径时，所述数值孔径等于所述标称值，并且其中，所述处理器(116)进一步配置成在所述无浸没成像模式下根据所述数值孔径的所述减小值控制所述光学系统(102)以生成代表样品(104)的概览图像的至少一个图像。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113677979A
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN202080028218.1
申请日：2020-03-25
Applicant: 莱卡微系统CMS有限责任公司
Abstract: 一种光片显微镜，其包括：样本空间，在该样本空间中可布置盖玻片或载玻片，该盖玻片或载玻片具有限定部分反射界面的表面；光学系统，该光学系统带有面向所述盖玻片或载玻片的物镜；被设计用于产生光片的照明机构；传感器；和处理器。所述光片显微镜形成用于检测测量变量的测量装置。该测量装置被设计用于，将所述光片穿过所述光学系统倾斜入射地转向到所述盖玻片或载玻片上，通过部分地在所述界面处反射所述光片来产生反射光束，接收穿过所述光学系统的反射光束并转向到所述传感器上。所述传感器被设计用于检测所述反射光束的强度和/或入射位置。所述处理器被设计用于基于所述反射光束的所检测的强度和/或入射位置来确定测量变量。
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公开(公告)号：CN112867918A
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN201980068865.2
申请日：2019-10-11
Applicant: 莱卡微系统CMS有限责任公司
IPC: G01N21/41
Abstract: 介绍一种用于确定显微镜(10、78)中的光学介质的折射率的方法，该显微镜具有面向样本空间(14)的物镜(12)，其中，具有待确定的折射率的所述光学介质是两种光学介质(26、28)之一，这些光学介质在所述样本空间(14)中与盖玻片或载玻片(16)的两个相反的表面(64、68)邻接，由此形成两个部分反射的界面，这些界面相距所述物镜(12)以不同的间距布置。在该方法中，使得测量光束(34)透过所述物镜(12)在倾斜地入射情况下转向至所述盖玻片或载玻片(16)，产生两个在空间上彼此分开的反射光束(54a、54b)，其方式为，使得所述测量光束(34)分别部分地在两个所述界面上反射，使得两个所述反射光束(54a、54b)被所述物镜(12)接收，并且转向至对位置灵敏的探测器(60)，借助所述对位置灵敏的探测器(36)来检测两个所述反射光束(54a、54b)的强度，基于两个所述反射光束(54a、54b)的所检测的强度来计算所述光学介质的折射率。
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公开(公告)号：CN111795734A
公开(公告)日：2020-10-20
申请号：CN202010251425.5
申请日：2020-04-01
Applicant: 莱卡微系统CMS有限责任公司
Abstract: 介绍一种与物镜一起使用的用于浸渍介质的输入装置，利用该物镜可对标本予以显微地成像，该输入装置包括：可松开地或者固定地安置在所述物镜上的盖罩，该盖罩限定了用于所述浸渍介质的容纳空间，其中，所述盖罩具有输出开口，该输出开口朝向所述物镜的面向标本的光学器件，保持在所述容纳空间中的浸渍介质经由该输出开口可输入给位于所述物镜的光学器件与所述标本之间的目标空间；和集成在所述盖罩中的带有电极结构的传感器，该电极结构用于检测输入的浸渍介质量。所述电极结构至少部分地环绕所述输出开口，并且具有在径向方向上离开所述输出开口伸展的立体检测区域。
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公开(公告)号：CN112748562B
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202011170868.8
申请日：2020-10-28
Applicant: 莱卡微系统CMS有限责任公司
IPC: G02B21/24
Abstract: 显微镜包括被配置为对包括盖玻片的样品进行成像的光学成像系统、显微镜驱动、位置敏感检测器、光学测量系统和控制单元，所述光学成像系统包括可调校正装置，显微镜驱动被配置为沿光学成像系统的光轴调节盖玻片和光学成像系统之间的距离。光学测量系统被配置为形成第一和第二测量光束，将测量光束以相对于光学成像系统的光轴的不同距离引导到光学成像系统的入射光瞳中，接收由测量光束在盖玻片的表面上的部分反射通过光学成像系统产生的第一和第二反射光束，以及将第一和第二反射光束引导到位置敏感检测器上。控制单元被配置为记录第一和第二反射光束在位置敏感检测器上的位置，并且基于所记录的第一和第二反射光束的位置确定像差。
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公开(公告)号：CN112748562A
公开(公告)日：2021-05-04
申请号：CN202011170868.8
申请日：2020-10-28
Applicant: 莱卡微系统CMS有限责任公司
IPC: G02B21/24
Abstract: 显微镜包括被配置为对包括盖玻片的样品进行成像的光学成像系统、显微镜驱动、位置敏感检测器、光学测量系统和控制单元，所述光学成像系统包括可调校正装置，显微镜驱动被配置为沿光学成像系统的光轴调节盖玻片和光学成像系统之间的距离。光学测量系统被配置为形成第一和第二测量光束，将测量光束以相对于光学成像系统的光轴的不同距离引导到光学成像系统的入射光瞳中，接收由测量光束在盖玻片的表面上的部分反射通过光学成像系统产生的第一和第二反射光束，以及将第一和第二反射光束引导到位置敏感检测器上。控制单元被配置为记录第一和第二反射光束在位置敏感检测器上的位置，并且基于所记录的第一和第二反射光束的位置确定像差。
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