等离子体源及其操作方法

    公开(公告)号:CN112313771A

    公开(公告)日:2021-02-02

    申请号:CN201980041072.1

    申请日:2019-06-20

    Abstract: 一种等离子体源(100),包括:具有开口(14)的外表面(10),用于从该开口递送等离子体。传送机构被配置为平行于外表面相对于彼此传送衬底(11)和等离子体源,其中,待处理的衬底表面与包含开口的外表面的至少一部分平行。第一瓦片(4‑1)和第二外片(4‑2)布置在工作电极(22)的第一平面内,其中,邻近边缘(12)与第一等离子体收集空间(6‑1)接界,并且第三瓦片(4‑3)布置在工作电极的平行于第一平面的第二平面内,使得第三瓦片与第一平面中的邻近边缘重叠。工作电极和对电极中的至少一个包括所述邻近边缘附近的局部修改(13、15)以增加到开口的等离子体递送,从而补偿由于邻近边缘引起的等离子体收集的损失。

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