三维打印系统及其使用的方法

    公开(公告)号:CN111844736B

    公开(公告)日:2025-05-09

    申请号:CN201910340369.X

    申请日:2019-04-25

    Abstract: 本发明提供一种三维打印系统、利用其制作金属微納结构和在薄膜衬底上制作微納结构的方法。所述三维打印系统包括:输送透明薄膜传送带输送的传送机构,上料机构,设置于机台的投影窗口上方的透明支撑板、载物机构和成像机构。所述上料机构包括设置于所述透明薄膜传送带的上方的至少一个上料装置,所述载物机构包括载物板和载物驱动部件,所述载物驱动部件驱动所述载物板靠近或远离所述透明薄膜传送带;所述成像机构位于所述机台的投影窗口下方,用于产生预定投影图案。本发明中的三维打印系统不仅可以实现正常的三维打印,还可以在薄膜衬底上制作微納结构,并且还可以制作金属微納结构。

    3D打印系统及3D打印方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110856978A

    公开(公告)日:2020-03-03

    申请号:CN201810939224.7

    申请日:2018-08-17

    Inventor: 卢国 魏国军 周扬

    Abstract: 一种3D打印系统,包括进料机构、打印平台和成像机构,进料机构包括打印传送带和多个供料罐,多个供料罐可将多种打印材料逐层排放到打印传送带上,打印传送带可将打印材料传送至打印平台上;打印平台包括载物板、打印头和压膜机构,载物板设于打印传送带的下方用于承载和定位打印材料;打印头设于打印传送带的上方,压膜机构设于载物板两侧且位于打印传送带上方;成像机构可产生照射打印材料的投影图案,将投影图案照射在载物板上的打印材料,使打印材料在打印平台上固化为打印实体。在打印传送带上进行打印时,通过压膜机构压紧打印传送带,保持打印传送带的平稳,有助于提高打印精度。本发明还涉及一种3D打印方法。

    一种大尺寸衍射光栅的制作方法及曝光装置

    公开(公告)号:CN105445834B

    公开(公告)日:2017-09-01

    申请号:CN201510701449.5

    申请日:2015-10-26

    Abstract: 一种大尺寸衍射光栅的制作方法及曝光装置,采用小尺寸光栅拼接而成,曝光装置包括两级缩微模块和消零级位相光栅,第一级缩微模块为4F成像系统,第二级缩微模块为双远心缩微投影干涉成像系统,该第二级缩微模块具有比第一级缩微模块更大的缩微倍数,且该第一缩微模块的成像面构成该第二级缩微模块的输入面,该第二缩微模块的输出面构成曝光成像时的记录面,其中第一级缩微模块包括第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组,所述消零级位相光栅位于该第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组之间,当曝光光斑中的条纹位置需要调整时,将该消零级位相光栅沿着垂直于栅线方向进行平移,实现光斑中条纹位置改变。

    混合光刻系统及混合光刻方法

    公开(公告)号:CN106681106A

    公开(公告)日:2017-05-17

    申请号:CN201710206374.2

    申请日:2017-03-31

    CPC classification number: G03F7/70383 G03F7/70408 G03F7/7045

    Abstract: 一种混合光刻系统,包括光源、光束整形器、光场调制器、反射镜、成像光学系统和位相器件,光束整形器用于整形光源发出的光束;光场调制器用于将整形后的光束生成图形光;成像光学系统和反射镜用于将光场传递至待曝光的光刻件表面实现直写光刻;位相器件用于在光刻件的表面形成干涉曝光场实现干涉光刻。本发明的混合光刻系统具有直写光刻和干涉光刻两种功能,可进行混合光刻,提高了纳米光刻效率,推动微纳结构相关的器件和材料应用具有重要意义。本发明还涉及一种的混合光刻方法。

    一种变色烫印膜及其制造方法

    公开(公告)号:CN103921582B

    公开(公告)日:2017-03-29

    申请号:CN201410062088.X

    申请日:2014-02-24

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 一种变色烫金膜及其制造方法,包括基膜、离型层、半透半反金属层、信息介质层、全反型金属层以及热熔胶层,所述信息介质层为可塑变的有机介质涂层,其至少一个表面或者内部设有多种高度不同的台阶,每一种台阶的高度对应一种颜色的法布里-珀罗腔。这些法布里-珀罗腔使得同一片烫印膜上,可以形成多种变色区域、变色图形和文字,也可实现不同偏振下的颜色效果,随着观察角的改变,该新型变色烫印膜的颜色也发生变化。该烫金膜采用卷对卷的方式制造,用热蒸发镀膜部分代替真空溅射镀膜,利用高效的纳米涂布方式制作有机介质涂层,利用压印手段获得台阶和微纳米结构,工艺简单高效,适合大幅面生产。

    连续可调结构光照明的超分辨显微成像方法与系统

    公开(公告)号:CN105814402A

    公开(公告)日:2016-07-27

    申请号:CN201380081848.5

    申请日:2013-11-27

    Abstract: 一种连续可调结构光照明的超分辨显微成像方法与系统,包括计算机(34)、光源(12)、可变标度的傅立叶变换光路、位相分光器件(9)、双远心投影光学系统(19)、大数值孔径物镜(30)、样品平台(32)和面阵相机,特征为:傅立叶变换光路包括第一傅立叶变换透镜或透镜组(8)与第二傅立叶变换透镜或透镜组(10),位相分光器件(9)置于两者之间,与第二傅立叶变换透镜或透镜组(10)之间的距离连续可调,具有绕傅立叶变换光路的光轴旋转的运动自由度。该连续可调结构光照明的超分辨显微成像方法与系统可灵活实现连续可变空频的干涉条纹,用于共焦显微光学系统的结构光场照明,实现空间超分辨率成像;在纳秒频闪分幅照明模式下,不仅可实现超分辨率显微成像,提升纳米检测可靠性和检测速度,还可进行样品的动态检测分析,实现瞬态纳米结构的检测。

    彩色动态图的激光打印装置及方法

    公开(公告)号:CN104191825B

    公开(公告)日:2016-05-11

    申请号:CN201410448548.2

    申请日:2014-09-04

    CPC classification number: B41M3/148 B41J2/442 B41M5/267 G02B3/0056 G02B5/128

    Abstract: 本发明公开了一种彩色动态图的激光打印装置及方法,其中,彩色动态图的激光打印装置包括:光学系统和记录材料,记录材料包括由多个微球或微透镜形成的折光层、形成于多个微球或微透镜焦面上的遮光层;光学系统包括激光器和图形生成器件,激光器发出的激光经图像生成器件处理后,照射到记录材料上,照射到记录材料上的激光经折光层聚焦在遮光层上,当聚焦的激光的能量大于遮光层的蒸发阈值时,遮光层上相应形成聚焦点。通过本发明的彩色动态图的激光打印装置对激光束入射角度的偏转,在记录材料的焦面上形成不同位置的激光聚焦点,实现不同颜料的热堆积。重复入射角度的偏转,形成多通道颜色图形的激光打印,最终形成彩色多通道动态图像的再现。

    一种并行激光直写系统及光刻方法

    公开(公告)号:CN103777474A

    公开(公告)日:2014-05-07

    申请号:CN201410076822.8

    申请日:2014-03-04

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 一种并行激光直写系统及光刻方法,通过设置两个或多个图形发生器,将不同的图形发生器按不同的角度放置,使得每个角度的斜线都能通过对应图形发生器中的水平或垂直直线像素进行显示,从而消除了原有的斜线上的锯齿现象,并保证了直线和斜线之间的线宽相等,提高了图形的线宽均匀性,使得光刻工艺的精度和品质得到改善。

Patent Agency Ranking