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公开(公告)号：CN118131476A
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202410565419.5
申请日：2024-05-09
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 南京大学 , 苏州大学
Abstract: 本申请提供一种空间光场成像器件及其制备方法。该空间光场成像器件包括：基材；单层微纳结构，设置于基材的一侧，单层微纳结构包括具有目标相位分布图的成像结构；其中，目标相位分布图被配置为由目标光场经初始成像结构形成目标中间像后，目标中间像逆向传播至透过初始成像结构时于初始成像结构的表面形成的相位分布图与初始成像结构的相位分布图相与或相切形成。上述空间光场成像器件有利于实现“消色差”的空间光场成像，保证成像的清晰度，并且不仅可实现近距离三维空间成像效果，也可以实现远距离空间投影成像效果。
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公开(公告)号：CN118033980A
公开(公告)日：2024-05-14
申请号：CN202211422578.7
申请日：2022-11-14
Applicant: 江苏维格新材料科技有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明涉及一种具有多层纹理的模具及其制作方法。具有多层纹理的模具的制作方法包括如下步骤：步骤一、提供基模，基模的表面具有第一层纹理，第一层纹理包括至少一种微纳结构；步骤二、将基模表面的第一层纹理复制到具有UV胶的基底上，得到UV胶底纹模具；步骤三、在UV胶底纹模具的具有第一层纹理的表面上形成光刻胶层，之后对光刻胶层进行光刻形成第二层纹理，且露出至少部分第一层纹理，得到具有多层纹理的UV胶底纹模具；以及步骤四、将具有多层纹理的UV胶底纹模具表面的多层纹理复制到底模上，得到具有多层纹理的模具。
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公开(公告)号：CN112684677B
公开(公告)日：2021-07-09
申请号：CN202110270751.5
申请日：2021-03-12
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供一种激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构及其制备方法。所述制备方法包括：提供三维模型图；将所述三维模型图在高度方向上进行划分，获得至少一个高度区间；将三维模型图在平面上进行投影得到映射关系，映射关系包括三维模型图上每个点对应在平面上的坐标，三维模型图上每个点的高度对应高度区间里的高度值，根据所述映射关系，将映射关系与曝光剂量进行对应，基于所述曝光剂量进行光刻。这样，可以得到任意三维微纳形貌结构。
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公开(公告)号：CN112014914A
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN201910461031.X
申请日：2019-05-30
Applicant: 苏州迈塔光电科技有限公司 , 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明涉及一种光学膜片，包括基层及设置在所述基层上的微纳结构层，所述微纳结构层包括至少一个第一结构区和至少一个第二结构区，所述第一结构区包括复数个微纳子结构，所述微纳子结构包括第一凸起结构和/或第一凹槽结构；所述第二结构区包括复数个微纳结构单元，所述微纳结构单元包括周期性排布的条纹结构，所述条纹结构包括第二凸起结构和/或第二凹槽结构。通过设置有至少一个第一结构区及至少一个第二结构区，使得光学膜片既有亮银光影效果，又有镭射效果，具有很好的装饰及辨识效果。
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公开(公告)号：CN111844735A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201910339444.0
申请日：2019-04-25
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/135 , B29C64/223 , B29C64/30 , B29C64/321 , G03F7/20 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y40/00 , B33Y40/20
Abstract: 本发明提供一种激光直写和三维打印复合系统及其使用方法，所述复合系统包括传送机构、上料机构、透明支撑板、载物机构和成像机构。所述传送机构用于输送透明薄膜传送带，所述上料机构包括设置于所述透明薄膜传送带的上方的至少一个上料装置，所述透明支撑板可拆卸的设置于机台的投影窗口上方且位于所述透明薄膜传送带的下方，所述透明支撑板设置于机台的投影窗口上时，所述系统运行在三维打印模式，所述透明支撑板移除后，所述系统运行在激光直写模式。所述成像机构位于所述机台的投影窗口下方，用于产生预定投影图案。这样，所述复合系统其既可以实现三维打印，可满足生物医药领域对打印精度的要求，也可以支持激光直写。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102418302B
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN201110323728.4
申请日：2011-10-21
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: D21H21/48
Abstract: 一种光学隐形水印安全纸。该安全纸利用亚波长光栅作为水印图像的像素点，使水印图像只有在掠射光入射时，才能在特殊的掠射角度下被观察到，既实现了反射性的光学水印、提高了光学水印的制作门槛，使水印图像的仿制难度大大增加，又简化了水印图像的可观察性，不需要使用额外的特殊工具就能在普通光源下看到。因此，本发明提出的具有光学隐形水印的安全纸具有广泛的应用领域。
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公开(公告)号：CN102392374B
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201110189748.7
申请日：2011-07-07
Applicant: 苏州大学
IPC: D06P5/15 , D06M15/233 , D06M15/356 , D06M15/53
Abstract: 本发明涉及一种纺织品染整加工用的助剂，公开了一种用于牛仔服装酶洗的防返沾色剂，按质量百分比，它包括：苯乙烯/马来酸酐共聚物的碱水解产物10～35%，聚乙烯吡咯烷酮2～10%，脂肪胺聚氧乙烯醚2～10%，脂肪醇聚氧乙烯醚5～25%，其余为水。采用高分子表面活性剂苯乙烯/马来酸酐共聚物的碱水解产物作为防返沾色剂的主要成份，其对不溶性靛蓝染料具有优异的吸附和分散作用，可较好地将酶洗下来的染料分散在洗涤液中，达到防返沾色的效果；将它与其他表面活性剂复配后，可以进一步提高防返沾色效果。本发明所提供的防返沾色剂对纤维素酶的活力没有明显影响，不降低酶洗效果，且具有较好的生物降解性，有利于保护环境。
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公开(公告)号：CN111844736A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201910340369.X
申请日：2019-04-25
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/135 , B29C64/336 , B29C64/245 , B29C64/194 , B22F3/105 , C12M3/00 , B33Y30/00 , B33Y40/00
Abstract: 本发明提供一种三维打印系统、利用其制作金属微納结构和在薄膜衬底上制作微納结构的方法。所述三维打印系统包括：输送透明薄膜传送带输送的传送机构，上料机构，设置于机台的投影窗口上方的透明支撑板、载物机构和成像机构。所述上料机构包括设置于所述透明薄膜传送带的上方的至少一个上料装置，所述载物机构包括载物板和载物驱动部件，所述载物驱动部件驱动所述载物板靠近或远离所述透明薄膜传送带；所述成像机构位于所述机台的投影窗口下方，用于产生预定投影图案。本发明中的三维打印系统不仅可以实现正常的三维打印，还可以在薄膜衬底上制作微納结构，并且还可以制作金属微納结构。
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公开(公告)号：CN105445834B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：CN201510701449.5
申请日：2015-10-26
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 一种大尺寸衍射光栅的制作方法及曝光装置，采用小尺寸光栅拼接而成，曝光装置包括两级缩微模块和消零级位相光栅，第一级缩微模块为4F成像系统，第二级缩微模块为双远心缩微投影干涉成像系统，该第二级缩微模块具有比第一级缩微模块更大的缩微倍数，且该第一缩微模块的成像面构成该第二级缩微模块的输入面，该第二缩微模块的输出面构成曝光成像时的记录面，其中第一级缩微模块包括第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组，所述消零级位相光栅位于该第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组之间，当曝光光斑中的条纹位置需要调整时，将该消零级位相光栅沿着垂直于栅线方向进行平移，实现光斑中条纹位置改变。
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公开(公告)号：CN105374467A
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201510696751.6
申请日：2015-10-23
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
CPC classification number: H01B13/0026 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01B5/14
Abstract: 本发明公开了一种纳米转印方法及纳米功能器件，其中，纳米转印方法包括如下步骤：S1.在柔性金属基板上涂布光刻胶；S2.对所述涂布光刻胶的柔性金属基板进行光刻，形成沟槽图形；S3.第一次电铸处理，形成图形电极；S4.第二次电铸处理，形成转印层；S5.通过卷对平转印模式，控制所述柔性金属基板，在相应承接基板上转印形成纳米结构材料层。本发明可在同一基板上实现不同材质的纳米电极或纳米结构功能区的转印，或者在同一基板相同区域实现多层复合结构纳米电极和功能区的转印。其利用金属基底上的图形电极作为转移模具，通过电沉积工艺，在转印模具的电极上形成纳米级材料层，并将模具上纳米级材料层转移到相应的柔性基板表面。
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