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公开(公告)号：CN107416765A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201710469398.7
申请日：2017-06-20
Applicant: 苏州大学
IPC: B82B3/00
CPC classification number: B82B3/0009
Abstract: 本发明涉及一种在平面或曲面上形成纳米凹凸结构的方法，包括以下步骤：将聚苯乙烯微球通过气液界面自组装法形成单分子膜；利用垂直提拉法，将单分子膜转移到基底上，然后刻蚀单分子膜，使单分子膜中的聚苯乙烯微球尺寸变小，形成基底暴露部分；继续刻蚀基底暴露部分，形成纳米凹凸结构。采用本发明的方法，可以对刚性平面或柔性曲面进行处理，制备工艺简单、可控性高、成本低，在制备具有微纳结构的光学器件、传感器、光伏器件、发光器件等领域有广阔的应用前景。
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