-
公开(公告)号：CN108844492B
公开(公告)日：2020-04-03
申请号：CN201811013435.4
申请日：2018-08-31
Applicant: 苏州大学
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明公开了一种基于光谱调制度深度编码的微结构形貌测量方法及其装置。被测元件与空间光调制器在测量所采用光谱范围的中心波长下呈物像共轭；光束折转耦合器、空间光调制器、准直扩束镜头、分束器、轴向非消色差显微物镜、成像镜头和彩色相机之间呈共光路结构。测量时，先对系统装置进行“光谱—深度”对应关系的预标定，再经测量装置采集被测元件反射的各帧单色移相条纹图，得到与被测件面形相关的各单色光条纹图的调制度分布，获取编码图像；采用高斯、类高斯或样条模型拟合确定待测面上各点的“光谱—调制度”关系曲线，解调得到对应的待测面上各点的深度信息，完成被测元件三维形貌分布微结构形貌的无机械式扫描、全场非接触的快速高精度测量。
-
公开(公告)号：CN108844492A
公开(公告)日：2018-11-20
申请号：CN201811013435.4
申请日：2018-08-31
Applicant: 苏州大学
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明公开了一种基于光谱调制度深度编码的微结构形貌测量方法及其装置。被测元件与空间光调制器在测量所采用光谱范围的中心波长下呈物像共轭；光束折转耦合器、空间光调制器、准直扩束镜头、分束器、轴向非消色差显微物镜、成像镜头和彩色相机之间呈共光路结构。测量时，先对系统装置进行“光谱—深度”对应关系的预标定，再经测量装置采集被测元件反射的各帧单色移相条纹图，得到与被测件面形相关的各单色光条纹图的调制度分布，获取编码图像；采用高斯、类高斯或样条模型拟合确定待测面上各点的“光谱—调制度”关系曲线，解调得到对应的待测面上各点的深度信息，完成被测元件三维形貌分布微结构形貌的无机械式扫描、全场非接触的快速高精度测量。
-
公开(公告)号：CN208635741U
公开(公告)日：2019-03-22
申请号：CN201821424821.8
申请日：2018-08-31
Applicant: 苏州大学
IPC: G01B11/24
Abstract: 本实用新型公开了一种基于光谱调制度深度编码的微结构形貌测量装置。被测元件与空间光调制器在测量所采用光谱范围的中心波长下呈物像共轭；光束折转耦合器、空间光调制器、准直扩束镜头、分束器、轴向非消色差显微物镜、成像镜头和彩色相机之间呈共光路结构。本实用新型所提供的测量装置无需轴向机械扫描部件，借助光谱调制选通模块、空间光调制器和轴向非消色差显微物镜，从系统硬件上实现“光谱—调制度—深度”三者之间的唯一性编码，从而完成对（类）镜面微结构，特别是面形变化复杂、非连续的（类）镜面微结构元件的全场、非接触、快速、精确测量，可有效抑制因机械部件扫描移动引入的测量误差，提升系统的可控性与抗干扰能力。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
-
-
Search Results
3
records
(took 0.014 seconds)
