公开(公告)号：CN111230752B

公开(公告)日：2020-11-20

申请号：CN202010119034.8

申请日：2020-02-26

Applicant: 苏州大学

Inventor： 韩艳君 ,  张雷 ,  樊成 ,  安东尼-布康 ,  朱吴乐

IPC: B24C1/08 ,  B24C5/04 ,  B24C7/00 ,  B24C9/00

Abstract: 本发明公开的浸没式气射流驱动抛光设备及抛光方法，抛光设备包括容器，包括工作腔，用于在工作腔中盛放抛光液并在工作时浸没工件和喷嘴；喷嘴，包括喷气口，喷嘴设置于工作腔内并在工作状态下浸没于工件上方的抛光液中，并且由喷气口朝向工件表面形成气射流；气源，连接到喷嘴的喷气口用于向喷嘴供气以由喷气口形成气射流。本发明方案属于柔性非接触抛光，可以实现各种自由曲面尤其是复杂型腔内表面的高精度高质量抛光。

公开(公告)号：CN111230752A

公开(公告)日：2020-06-05

申请号：CN202010119034.8

申请日：2020-02-26

Applicant: 苏州大学

Inventor： 韩艳君 ,  张雷 ,  樊成 ,  安东尼-布康 ,  朱吴乐

IPC: B24C1/08 ,  B24C5/04 ,  B24C7/00 ,  B24C9/00

Abstract: 本发明公开的浸没式气射流驱动抛光设备及抛光方法，抛光设备包括容器，包括工作腔，用于在工作腔中盛放抛光液并在工作时浸没工件和喷嘴；喷嘴，包括喷气口，喷嘴设置于工作腔内并在工作状态下浸没于工件上方的抛光液中，并且由喷气口朝向工件表面形成气射流；气源，连接到喷嘴的喷气口用于向喷嘴供气以由喷气口形成气射流。本发明方案属于柔性非接触抛光，可以实现各种自由曲面尤其是复杂型腔内表面的高精度高质量抛光。