公开(公告)号：CN105467685B

公开(公告)日：2020-10-30

申请号：CN201510622698.5

申请日：2015-09-25

Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社

Inventor： 西中胜喜 ,  梶原慎二

IPC: G02F1/1337

Abstract: 本发明提供一种基板、膜形成基板的制造方法以及涂布装置。本发明的课题在于抑制产生于膜形成区域的膜厚不均。本发明的基板(1)形成有沿着膜形成区域(2)的外周的凹槽(10)，在凹槽(10)与膜形成区域(2)之间，包含并列有多个凹部(20)的凹部群(20N)，并且凹部群(20N)的各凹部(20)的形状形成为如下形状：使涂布于基板(1)上的液体相比于从膜形成区域(2)朝向凹槽(10)的方向，在从凹槽(10)朝向膜形成区域(2)的方向上更难流动。

公开(公告)号：CN105467685A

公开(公告)日：2016-04-06

申请号：CN201510622698.5

申请日：2015-09-25

Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社

Inventor： 西中胜喜 ,  梶原慎二

IPC: G02F1/1337

Abstract: 本发明提供一种基板、膜形成基板的制造方法以及涂布装置。本发明的课题在于抑制产生于膜形成区域的膜厚不均。本发明的基板(1)形成有沿着膜形成区域(2)的外周的凹槽(10)，在凹槽(10)与膜形成区域(2)之间，包含并列有多个凹部(20)的凹部群(20N)，并且凹部群(20N)的各凹部(20)的形状形成为如下形状：使涂布于基板(1)上的液体相比于从膜形成区域(2)朝向凹槽(10)的方向，在从凹槽(10)朝向膜形成区域(2)的方向上更难流动。