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公开(公告)号：CN116741698A
公开(公告)日：2023-09-12
申请号：CN202310114882.3
申请日：2023-02-15
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
Inventor： 秋本纱希
IPC: H01L21/687
Abstract: 本发明提供一种可使对基板进行支撑的支撑部轻量化，且可使处理中的基板的旋转稳定的基板处理装置。实施方式的基板处理装置(1)具有：支撑部(13)，对基板(W)进行支撑；旋转机构(12)，使支撑于支撑部(13)的基板(W)旋转；以及供给部(15)，向基板(W)供给处理液(L)，支撑部(13)具有：保持构件(130)，通过沿接近或离开基板(W)的方向进退来保持及释放基板(W)；伸缩部(132)，包含光刺激响应性材料，根据伸缩使保持构件(130)进退；以及照射部(134)，对伸缩部(132)照射使伸缩部(132)伸缩的波长的光。
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