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公开(公告)号：CN116805597A
公开(公告)日：2023-09-26
申请号：CN202310268283.7
申请日：2023-03-20
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/687 , H01L21/66 , H01L21/306 , H01L21/02
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置、基板处理方法，能够抑制因新飞散的处理液碰撞到留在杯体内壁面的处理液所引起的雾的产生，防止所述雾附着于基板。本发明的基板处理装置包括：保持部，保持基板；驱动部，设于保持部，使基板与所述保持部一同旋转；供给部，为了对基板进行处理而对基板的被处理面供给处理液；第一杯体，以包围基板的方式而设；第二杯体，以包围第一杯体的方式而设，且内壁面的性质与第一杯体不同；以及移动控制部，使第一杯体以及第二杯体移动，使第一杯体的内壁面或第二杯体的内壁面的其中一者承接从基板飞散的处理液。
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