公开(公告)号：CN115116813A

公开(公告)日：2022-09-27

申请号：CN202210151147.5

申请日：2022-02-15

Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社

Inventor： 吉森大晃 ,  嘉瀬庆久 ,  中泽和辉

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种可抑制由污染物引起的污染的等离子体处理装置、及等离子体处理方法。实施方式的等离子体处理装置包括：第一腔室；第一排气部；等离子体产生部；第一气体供给部；第二腔室；搬送部；第二排气部；第二气体供给部；以及控制器。所述控制器在进行所述搬送部对所述处理物的搬送时，控制所述第二排气部，以使所述第二腔室内部的压力成为与所述第一腔室内部的压力大致同等，在所述搬送部对所述处理物的搬送结束时，控制所述第二气体供给部，而向所述第二腔室的内部供给所述气体。

公开(公告)号：CN115116874A

公开(公告)日：2022-09-27

申请号：CN202210136498.9

申请日：2022-02-15

Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社

Inventor： 吉森大晃 ,  嘉瀬庆久 ,  中泽和辉

IPC: H01L21/66 ,  H01J37/32

Abstract: 本发明提供一种可准确地进行检查用晶片上的粒子的测定的等离子体处理装置的检查方法。实施方式的等离子体处理装置的检查方法包括：利用搬送部从第二腔室向第一腔室搬送检查用晶片的工序；在利用所述搬送部进行的所述检查用晶片向所述第一腔室的搬送结束后，向所述第二腔室的内部供给气体的工序；在所述第一腔室内对所述检查用晶片进行等离子体处理的工序；利用所述搬送部从所述第一腔室向所述第二腔室搬送检查用晶片的工序；在利用所述搬送部进行的所述检查用晶片向所述第二腔室的搬送结束后，向所述第二腔室的内部供给所述气体的工序；以及对附着于从所述第二腔室搬出的所述检查用晶片的粒子进行测定的工序。