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公开(公告)号：CN109585348A
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201811145205.3
申请日：2018-09-29
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/677
Abstract: 提供能够使生产性提高的基板处理装置以及基板处理方法。实施方式的基板处理装置具备：作为交接台发挥功能的缓冲单元(14)，具有分开地支承基板(W)的第1载置台(14a1)以及第2载置台(14a2)；以及作为输送部发挥功能的第2输送机器人(15)，具有保持基板(W)的手部(31)，从缓冲单元(14)输送基板(W)。缓冲单元(14)形成为能够实现：手部(31)从第1载置台(14a1)的上位置朝向下位置向下方向移动，将第1载置台(14a1)置于基板(W)，移动到第1载置台(14a1)的下位置的手部(31)从第1载置台(14a1)的下位置向第2载置台(14a2)的下位置横向移动，移动到第2载置台(14a2)的下位置的手部(31)从第2载置台(14a2)的下位置朝向上位置向上方向移动，从第2载置台(14a2)抬起基板(W)。
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公开(公告)号：CN109585339A
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201811145723.5
申请日：2018-09-29
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种能够提高生产性的基板处理装置及基板处理方法。实施方式的基板处理装置(10)具有：开闭单元(11)，作为收纳基板(W)的收纳容器发挥作用；多个处理室(17a)，用于对基板(W)进行处理；缓冲单元(14)，位于开闭单元(11)和处理室(17a)之间，作为用于放置在处理室(17a)进行了处理的基板(W)或者未处理的基板(W)的交接台发挥作用；第2输送机器人(15)，作为从缓冲单元(14)输送基板(W)的输送部发挥作用；以及移动机构(16)，根据与基板(W)的处理相关的基板处理信息，使缓冲单元(14)及第2输送机器人(15)沿多个处理室(17a)排列的列方向单独移动。
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公开(公告)号：CN106024692A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610192768.2
申请日：2016-03-30
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/687
CPC classification number: H01L21/68714 , H01L2221/683
Abstract: 本发明提供能抑制产生粉尘和旋转过程中的基板位置偏移的自旋处理装置。自旋处理装置(1)具备：多个夹销(21)，利用作用力分别抵接于基板的外周面并把持基板；旋转机构即电动机(4)等，使各夹销绕着基板的外周旋转；升降机构(3h)，使固定环形磁铁沿着基板的旋转轴方向上下：变换机构(3g)，将与固定环形磁铁相斥的旋转环形磁铁的上下方向的运动变化为横向运动；同步移动机构即多个副齿轮(3e)、主齿轮(3f)等，对应于横向运动中的某一方向的运动，使各夹销同步地抵抗上述作用力而向远离基板外周面的方向移动相同的量，对应于横向运动中的另一方向的运动，使各夹销在上述作用力下同步地向靠近基板的外周面的方向移动相同的量。
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公开(公告)号：CN119742245A
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202411235718.9
申请日：2024-09-04
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，其能够将残留于板的相向面的处理液去除而保持板的清洁度。基板处理装置具有：旋转体，使由保持部保持的基板旋转；处理液供给部，向基板的被处理面供给处理液；板，设置于与被处理面相向的位置；加热部，设置于板，对供给至基板的被处理面的处理液进行加热；以及清洗部，对与板的被处理面相向的相向面进行清洗。清洗部具有：供液部，向相向面供给清洗液；擦拭部，与相向面接触来对由供液部供给的清洗液进行擦拭；支柱，将擦拭部支持为能够以沿与相向面平行的方向延伸的轴为转动轴转动；以及移动机构，使擦拭部沿着相向面移动。
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公开(公告)号：CN106024692B
公开(公告)日：2019-01-22
申请号：CN201610192768.2
申请日：2016-03-30
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/687
Abstract: 本发明提供能抑制产生粉尘和旋转过程中的基板位置偏移的自旋处理装置。自旋处理装置(1)具备：多个夹销(21)，利用作用力分别抵接于基板的外周面并把持基板；旋转机构即电动机(4)等，使各夹销绕着基板的外周旋转；升降机构(3h)，使固定环形磁铁沿着基板的旋转轴方向上下：变换机构(3g)，将与固定环形磁铁相斥的旋转环形磁铁的上下方向的运动变化为横向运动；同步移动机构即多个副齿轮(3e)、主齿轮(3f)等，对应于横向运动中的某一方向的运动，使各夹销同步地抵抗上述作用力而向远离基板外周面的方向移动相同的量，对应于横向运动中的另一方向的运动，使各夹销在上述作用力下同步地向靠近基板的外周面的方向移动相同的量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109585339B
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN201811145723.5
申请日：2018-09-29
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种能够提高生产性的基板处理装置及基板处理方法。实施方式的基板处理装置(10)具有：开闭单元(11)，作为收纳基板(W)的收纳容器发挥作用；多个处理室(17a)，用于对基板(W)进行处理；缓冲单元(14)，位于开闭单元(11)和处理室(17a)之间，作为用于放置在处理室(17a)进行了处理的基板(W)或者未处理的基板(W)的交接台发挥作用；第2输送机器人(15)，作为从缓冲单元(14)输送基板(W)的输送部发挥作用；以及移动机构(16)，根据与基板(W)的处理相关的基板处理信息，使缓冲单元(14)及第2输送机器人(15)沿多个处理室(17a)排列的列方向单独移动。
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公开(公告)号：CN106876300B
公开(公告)日：2019-09-27
申请号：CN201610862476.5
申请日：2016-09-28
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供能够提高基板处理效率的基板处理装置和基板处理方法。实施形态的基板处理装置具备：退避室(31)，将退避室(31)夹在中间地设置的一对处理室(21)，起能够遍及退避室(31)内和一对处理室(21)内地移动地设置、给处理室(21)内的基板(W)上提供处理液、并且加热该基板(W)上的处理液的处理部的作用的加热器(32)，以及起使加热器(32)遍及退避室(31)内和一对处理室(21)内地移动的移动机构的作用的加热器移动机构(33)。
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公开(公告)号：CN107275258A
公开(公告)日：2017-10-20
申请号：CN201710200850.X
申请日：2017-03-30
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/68 , H01L21/66
Abstract: 提供能够抑制基板产生品质不良的基板处理装置。实施方式的基板处理装置(10)具有：保持基板的基板保持板(20)；处理液保持板(40)，具有排出处理液S的排出口(40a)，并设于与由基板保持板(20)保持的基板W的表面对置并离开的位置，在与由基板保持板(20)保持的基板W的表面之间保持从排出口(40a)排出的处理液S；加热器(41)，设于处理液保持板(40)，加热处理液保持板(40)；升降机构(60)，使处理液保持板(40)以及加热器(41)相对于由基板保持板(20)保持的基板升降；及疏液层(43)，以包围排出口(40a)的方式呈环状设置于处理液保持板(40)的基板W侧的表面，并排斥处理液S。
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公开(公告)号：CN106876300A
公开(公告)日：2017-06-20
申请号：CN201610862476.5
申请日：2016-09-28
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供能够提高基板处理效率的基板处理装置和基板处理方法。实施形态的基板处理装置具备：退避室(31)，将退避室(31)夹在中间地设置的一对处理室(21)，起能够遍及退避室(31)内和一对处理室(21)内地移动地设置、给处理室(21)内的基板(W)上提供处理液、并且加热该基板(W)上的处理液的处理部的作用的加热器(32)，以及起使加热器(32)遍及退避室(31)内和一对处理室(21)内地移动的移动机构的作用的加热器移动机构(33)。
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公开(公告)号：CN119698685A
公开(公告)日：2025-03-25
申请号：CN202380059418.7
申请日：2023-09-19
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/306 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种多个夹紧销可同步地将基板稳定地定位于旋转中心的基板处理装置。实施方式的基板处理装置1具有：夹紧杆12，随着绕水平方向的轴的转动，使至少三个夹紧销11在远离基板W的外周端We的打开位置和与外周端We相接并对基板W进行保持的关闭位置之间移动；升降环15，随着升降使夹紧杆12转动；旋转体30，使由夹紧销11保持的基板W旋转；旋转机构40，使旋转体30绕轴Ax旋转；升降机构50，使升降环15升降；施力构件56，对夹紧杆12向处于关闭位置的方向施力；同步环61，设置成能够绕轴Ax转动且无法升降；转换机构62，将升降环15的升降转换为同步环61的转动，并且将升降环15的姿势维持为水平状态；以及供给部70，向基板W供给处理液。
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