公开(公告)号：CN102007564A

公开(公告)日：2011-04-06

申请号：CN200980113522.X

申请日：2009-04-23

Applicant: 艾克塞利斯科技公司

Inventor： 丹尼尔·蒂戈尔 ,  威廉·迪韦尔吉利奥 ,  爱德华·艾斯纳 ,  迈克尔·格拉夫

IPC: H01J37/09 ,  H01J37/317 ,  H01J27/00 ,  H01J27/08

CPC classification number: H01J37/08 ,  H01J27/024 ,  H01J37/09 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/0455 ,  H01J2237/061 ,  H01J2237/0835

Abstract: 本发明公开一种离子植入器系统，其包括一种使用于产生离子流或离子射束的一离子源。该离子源具有一离子源室壳体，其至少部分地限定一离子化区域，以用于在该室壳体中产生高密度的离子浓度。一所想要特征的离子撷取孔径覆盖一弧形室的该离子化区域。在一实施例中，一可移动离子撷取孔径板相对于该壳体移动，以用于修正一离子射束轮廓。一实施例包括一孔径板，其具有至少一延长孔径，且在至少界定不同离子射束轮廓的一第一位置与一第二位置间移动。耦接至该孔径板的一驱动器或致动器系将该孔径板在该第一位置与该第二位置间移动。一替代实施例具有两个移动板部分，其限定一可调整孔径。