公开(公告)号：CN116300309A

公开(公告)日：2023-06-23

申请号：CN202211555124.7

申请日：2022-12-06

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司

Inventor： L-S·柯 ,  A·查韦斯 ,  山田晋太郎

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20

Abstract: 一种形成图案的方法，该方法包括：在衬底上施加光致抗蚀剂底层组合物以提供光致抗蚀剂底层；在该光致抗蚀剂底层上形成光致抗蚀剂层；将该光致抗蚀剂层图案化；以及将图案从该图案化的光致抗蚀剂层转移到该光致抗蚀剂底层。该光致抗蚀剂底层组合物包括包含如本文所描述的由式1表示的重复单元的聚合物、包含如本文所描述的由式2表示的取代基的化合物、以及溶剂。

公开(公告)号：CN115877656A

公开(公告)日：2023-03-31

申请号：CN202211113486.0

申请日：2022-09-13

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司

Inventor： L-S·柯 ,  A·查韦斯 ,  山田晋太郎

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/11

Abstract: 公开了一种光致抗蚀剂底层组合物，其包含：包含两个或更多个羟基的第一材料；包含两个或更多个缩水甘油基的第二材料；添加剂，其中所述添加剂包含具有式(5)的化合物、具有式(6)的化合物、或其组合；以及溶剂，其中式(5)和(6)的结构如本文所公开。