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公开(公告)号：CN112898882A
公开(公告)日：2021-06-04
申请号：CN202011275435.9
申请日：2020-11-13
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司
IPC: C09D165/00 , C09D7/63 , G02B1/04 , H01L51/52 , H01L27/32
Abstract: 公开了一种包含聚合物层的涂层，其中所述聚合物层包含第一单体和第二单体的反应产物、或所述反应产物的固化产物，所述第一单体包含两个或更多个芳香族乙炔基团、第二单体包含两个或更多个环戊二烯酮基团。所述涂层可能或可能不额外地含有交联剂和/或热酸产生剂。由所述涂层制成的光学薄膜表现出折射率，这使其可用作中间层以匹配显示装置的邻近层之间的折射率；从而改善装置输出效率。
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公开(公告)号：CN110607520A
公开(公告)日：2019-12-24
申请号：CN201910468430.9
申请日：2019-05-31
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司
IPC: C23C18/40
Abstract: 稳定的无电镀铜浴包括吡啶鎓化合物，以提高在基材上的铜沉积速率。来自无电镀浴的铜可以在低温和高镀速下进行镀敷。
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公开(公告)号：CN112898882B
公开(公告)日：2022-10-28
申请号：CN202011275435.9
申请日：2020-11-13
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司
IPC: C09D165/00 , C09D7/63 , G02B1/04 , H01L51/52 , H01L27/32
Abstract: 公开了一种包含聚合物层的涂层，其中所述聚合物层包含第一单体和第二单体的反应产物、或所述反应产物的固化产物，所述第一单体包含两个或更多个芳香族乙炔基团、第二单体包含两个或更多个环戊二烯酮基团。所述涂层可能或可能不额外地含有交联剂和/或热酸产生剂。由所述涂层制成的光学薄膜表现出折射率，这使其可用作中间层以匹配显示装置的邻近层之间的折射率；从而改善装置输出效率。
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公开(公告)号：CN110607521B
公开(公告)日：2021-08-27
申请号：CN201910495188.4
申请日：2019-06-06
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司
IPC: C23C18/40
Abstract: 稳定的无电镀铜浴包括咪唑鎓化合物，以提高在基材上的铜沉积速率。来自无电镀浴的铜可以在低温和高镀速下进行镀敷。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110607520B
公开(公告)日：2021-07-30
申请号：CN201910468430.9
申请日：2019-05-31
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司
IPC: C23C18/40
Abstract: 稳定的无电镀铜浴包括吡啶鎓化合物，以提高在基材上的铜沉积速率。来自无电镀浴的铜可以在低温和高镀速下进行镀敷。
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公开(公告)号：CN109294587A
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：CN201810672500.8
申请日：2018-06-26
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司
Inventor： C·穆尔泽
IPC: C09K13/02
Abstract: 使用含水和碱性的不含铬的蚀刻溶液蚀刻耐化学性的聚合物。所述不含铬的蚀刻含水碱性溶液对环境友好，并且可用于制备耐化学性聚合物，所述耐化学性聚合物用于无电金属镀覆，包括在印刷电路板制造中镀覆通孔壁。
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公开(公告)号：CN114316137A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202111179292.6
申请日：2021-10-08
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司 , 杜邦电子公司 , 罗门哈斯电子材料韩国有限公司
IPC: C08F226/12 , C08F220/18 , C08F212/32 , C08F220/20 , C08F220/28 , C08F220/06 , C08F212/14 , C08F126/12 , C08L39/04 , C08J5/18 , G02B1/04
Abstract: 公开了一种配制品，其包含共聚物和一种或多种溶剂，所述共聚物包含一种或多种高折射率第一单体以及含有反应性侧链的一种或多种第二单体。所述配制品可以任选地含有额外的组分。还公开了用于由所述配制品形成光学薄膜的方法，以及含有所述光学薄膜的光学装置。
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公开(公告)号：CN112198220A
公开(公告)日：2021-01-08
申请号：CN202010539747.X
申请日：2020-06-12
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司 , 罗门哈斯电子材料韩国有限公司
IPC: G01N29/02 , G01N27/22 , G01N27/12 , G01N29/036
Abstract: 提供了气体传感器。所述气体传感器包括：基底；所述基底上的多个电极；以及用于吸附气相分析物的所述基底上的聚合物感测层。所述分析物的吸附有效地改变所述气体传感器的性质，从而导致来自所述气体传感器的输出信号发生变化。所述聚合物感测层包含选自取代的或未取代的聚亚芳基化物的聚合物，所述聚合物包括单体的反应产物，或所述反应产物的固化产物，所述单体包括包含芳族乙炔基团的第一单体和包含两个或更多个环戊二烯酮基团的第二单体。所述气体传感器以及使用此类传感器的方法尤其可用于气相有机分析物的感测。
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公开(公告)号：CN110607521A
公开(公告)日：2019-12-24
申请号：CN201910495188.4
申请日：2019-06-06
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司
IPC: C23C18/40
Abstract: 稳定的无电镀铜浴包括咪唑鎓化合物，以提高在基材上的铜沉积速率。来自无电镀浴的铜可以在低温和高镀速下进行镀敷。
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