-
公开(公告)号：CN101943860B
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：CN201010253910.2
申请日：2010-06-08
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC classification number: G03F7/38 , G03F7/0392 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325 , H01L21/0274
Abstract: 提供了新型平板处理方法，在浸没平版印刷体系中特别有用。一方面，本发明的处理方法包括：在基底上应用光致抗蚀剂组合物；将所述光致抗蚀剂层在辐射下曝光激活光致抗蚀剂组合物；除去部分但非全部曝光的光致抗蚀剂层；和将处理后的光致抗蚀剂层显影得到光致抗蚀起伏图象。
-
公开(公告)号：CN101943860A
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN201010253910.2
申请日：2010-06-08
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC classification number: G03F7/38 , G03F7/0392 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325 , H01L21/0274
Abstract: 提供了新型平板处理方法，在浸没平版印刷体系中特别有用。一方面，本发明的处理方法包括：在基底上应用光致抗蚀剂组合物；将所述光致抗蚀剂层在辐射下曝光激活光致抗蚀剂组合物；除去部分但非全部曝光的光致抗蚀剂层；和将处理后的光致抗蚀剂层显影得到光致抗蚀起伏图象。
-
公开(公告)号：CN1940146A
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN200610141622.1
申请日：2006-09-28
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C25D3/38
Abstract: 提供了用于金属镀浴的均化剂。包含这些均化剂的镀浴提供了具有相当平坦表面的金属沉积。可通过选择这些均化剂以选择性地在金属沉积中结合所需含量的杂质。
-
公开(公告)号：CN102796221A
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN201210243288.6
申请日：2012-05-28
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C08F220/18 , C08F220/34 , C08F220/28 , C08F220/16 , C08F220/36 , C08F220/38 , G03F7/004 , G03F7/09
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/32 , C08F220/34 , C08F220/36 , C08F220/38 , C08F220/58 , C08F226/06 , C08F2220/1833 , C08F2220/283 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/09 , G03F7/2041
Abstract: 本发明涉及表面活性添加剂和包含该表面活性添加剂的光刻胶组合物。一种聚合物，包含单体聚合的产物，所述单体包括：含有式(Ia)、式(Ib)或式(Ia)和(Ib)组合的含氮单体，和具有式(II)的可酸去保护单体：其中：a是0或1；每个Ra独立的是H、F、C1-C10烷基或者C1-C10氟化烷基，L1是直链或支链C1-C20亚烷基、或者单环、多环、或者稠合多环C3-C20亚环烷基，每个Rb独立的是H、C1-C10烷基、C3-C20环烷基、C3-C20杂环烷基、脂肪族C5-C20氧基羰基或者任选包括杂原子取代基的C1-C30酰基基团，其中每个Rb是独立的，或者至少一个Rb与相邻的Rb相连；LN是含氮的单环、多环、或者稠合多环C3-C20亚杂环烷基；X是H、C1-C10烷基、脂肪族C5-C20氧基羰基或任选包括杂原子取代基的C1-C30酰基基团；每个Rc独立的是C1-C10烷基、C3-C20环烷基、C3-C20杂环烷基，其中每个Rc是独立的或者至少一个Rc与相邻的Rc相连。
-
公开(公告)号：CN102225924B
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：CN201010625286.4
申请日：2010-12-10
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C07D333/46 , C07D493/18 , C07C309/12 , C07C303/32 , C07C381/12 , C07J31/00 , G03F7/004 , G03F7/26
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C303/32 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C321/30 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07D333/46 , C07D335/02 , C07D337/04 , C07D493/20 , C07J31/006 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 光酸发生剂和包含该光酸发生剂的光致抗蚀剂。本发明提供光酸发生剂化合物(“PAGs”)新的合成方法，新的光酸发生剂化合物以及包含这种PAG化合物的光致抗蚀剂组合物。一个特别的方面，提供含锍(S+)光酸发生剂以及锍类光酸发生剂的合成方法。提供了一种含锍化合物的制备方法，所述制备方法包括环合烷基硫代化合物。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102796221B
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：CN201210243288.6
申请日：2012-05-28
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C08F220/18 , C08F220/34 , C08F220/28 , C08F220/16 , C08F220/36 , C08F220/38 , G03F7/004 , G03F7/09
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/32 , C08F220/34 , C08F220/36 , C08F220/38 , C08F220/58 , C08F226/06 , C08F2220/1833 , C08F2220/283 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/09 , G03F7/2041
Abstract: 本发明涉及表面活性添加剂和包含该表面活性添加剂的光刻胶组合物。一种聚合物，包含单体聚合的产物，所述单体包括：含有式(Ia)、式(Ib)或式(Ia)和(Ib)组合的含氮单体，和具有式(II)的可酸去保护单体：其中：a是0或1；每个Ra独立的是H、F、C1-C10烷基或者C1-C10氟化烷基，L1是直链或支链C1-C20亚烷基、或者单环、多环、或者稠合多环C3-C20亚环烷基，每个Rb独立的是H、C1-C10烷基、C3-C20环烷基、C3-C20杂环烷基、脂肪族C5-C20氧基羰基或者任选包括杂原子取代基的C1-C30酰基基团，其中每个Rb是独立的，或者至少一个Rb与相邻的Rb相连；LN是含氮的单环、多环、或者稠合多环C3-C20亚杂环烷基；X是H、C1-C10烷基、脂肪族C5-C20氧基羰基或任选包括杂原子取代基的C1-C30酰基基团；每个Rc独立的是C1-C10烷基、C3-C20环烷基、C3-C20杂环烷基，其中每个Rc是独立的或者至少一个Rc与相邻的Rc相连。
-
公开(公告)号：CN102225924A
公开(公告)日：2011-10-26
申请号：CN201010625286.4
申请日：2010-12-10
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C07D333/46 , C07D493/18 , C07C309/12 , C07C303/32 , C07C381/12 , C07J31/00 , G03F7/004 , G03F7/26
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C303/32 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C321/30 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07D333/46 , C07D335/02 , C07D337/04 , C07D493/20 , C07J31/006 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 光酸发生剂和包含该光酸发生剂的光致抗蚀剂。本发明提供光酸发生剂化合物(“PAGs”)新的合成方法，新的光酸发生剂化合物以及包含这种PAG化合物的光致抗蚀剂组合物。一个特别的方面，提供含锍(S+)光酸发生剂以及锍类光酸发生剂的合成方法。提供了一种含锍化合物的制备方法，所述制备方法包括环合烷基硫代化合物。
-
公开(公告)号：CN1733978B
公开(公告)日：2011-09-14
申请号：CN200510087510.8
申请日：2005-07-20
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C25D3/38
CPC classification number: C08G59/184 , C25D3/38 , H01L21/2885 , H05K3/423
Abstract: 提供了含有匀涂剂混合物的电镀液，该匀涂剂混合物包括拥有第一扩散系数的第一匀涂剂和拥有第二扩散系数的第二匀涂剂。该电镀液在各种电解质浓度下均能沉积基本平面的金属层，尤其是铜层。还公开了使用该电镀液沉积金属层的方法。这些电镀液和方法用于在有很小缝隙的基材上(例如电子器件)提供平的铜层。
-
公开(公告)号：CN1940146B
公开(公告)日：2010-05-12
申请号：CN200610141622.1
申请日：2006-09-28
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C25D3/38
Abstract: 提供了用于金属镀浴的均化剂。包含这些均化剂的镀浴提供了具有相当平坦表面的金属沉积。可通过选择这些均化剂以选择性地在金属沉积中结合所需含量的杂质。
-
公开(公告)号：CN1733978A
公开(公告)日：2006-02-15
申请号：CN200510087510.8
申请日：2005-07-20
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C25D3/38
CPC classification number: C08G59/184 , C25D3/38 , H01L21/2885 , H05K3/423
Abstract: 提供了含有匀涂剂混合物的电镀液，该匀涂剂混合物包括拥有第一扩散系数的第一匀涂剂和拥有第二扩散系数的第二匀涂剂。该电镀液在各种电解质浓度下均能沉积基本平面的金属层，尤其是铜层。还公开了使用该电镀液沉积金属层的方法。这些电镀液和方法用于在有很小缝隙的基材上(例如电子器件)提供平的铜层。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
10
records
(took 0.036 seconds)
