公开(公告)号：CN109477209B

公开(公告)日：2021-05-14

申请号：CN201780045612.4

申请日：2017-06-21

Applicant: 罗伯特·博世有限公司

Inventor： M·京特 ,  O·施密特 ,  W·多布雷金

IPC: C23C14/50 ,  C23C16/44 ,  H01J37/32

Abstract: 基底保持架(1)，其包括用于将电势US供给至基底(2)的第一触点(3)，其中，在基底保持架(1)的表面(11)上的充电区域(12)构造为能够通过从涂覆设备(100)的离子源(104)到达的离子(101、102)充电(13)，和/或设置第二触点(4)，能够通过第二触点以不同于电势US的能自由选择的电势UH加载在基底保持架(1)的表面(11)上的电极区域(14)。涂覆设备(100)，其具有至少一个离子源(104)和第一电压源(106)，第一电压源能够与待涂覆的基底(2)连接，从而能够通过由第一电压源(106)施加在基底(2)上的电势US使来自离子源(104)的气体离子(101)和/或涂覆材料(103)的离子(102)朝向基底(2)的方向加速，其中，至少一个邻近面(11、105)构造为能通过到达的离子(101、102)充电(13、113)，未到达基底(2)的离子(101、102)朝邻近面运动，和/或，设置至少一个第二电压源(107)，第二电压源能够与邻近面(11、105)连接，使得邻近面(11、105)能够以不同于电势US的能自由选择的电势UH加载。用于运行的方法和计算机程序产品。

公开(公告)号：CN109477209A

公开(公告)日：2019-03-15

申请号：CN201780045612.4

申请日：2017-06-21

Applicant: 罗伯特·博世有限公司

Inventor： M·京特 ,  O·施密特 ,  W·多布雷金

IPC: C23C14/50 ,  C23C16/44 ,  H01J37/32

CPC classification number: C23C14/50 ,  C23C16/4401 ,  H01J37/32403 ,  H01J37/32422 ,  H01J37/32706 ,  H01J37/32715 ,  H01J37/32862

Abstract: 基底保持架(1)，其包括用于将电势US供给至基底(2)的第一触点(3)，其中，在基底保持架(1)的表面(11)上的充电区域(12)构造为能够通过从涂覆设备(100)的离子源(104)到达的离子(101、102)充电(13)，和/或设置第二触点(4)，能够通过第二触点以不同于电势US的能自由选择的电势UH加载在基底保持架(1)的表面(11)上的电极区域(14)。涂覆设备(100)，其具有至少一个离子源(104)和第一电压源(106)，第一电压源能够与待涂覆的基底(2)连接，从而能够通过由第一电压源(106)施加在基底(2)上的电势US使来自离子源(104)的气体离子(101)和/或涂覆材料(103)的离子(102)朝向基底(2)的方向加速，其中，至少一个邻近面(11、105)构造为能通过到达的离子(101、102)充电(13、113)，未到达基底(2)的离子(101、102)朝邻近面运动，和/或，设置至少一个第二电压源(107)，第二电压源能够与邻近面(11、105)连接，使得邻近面(11、105)能够以不同于电势US的能自由选择的电势UH加载。用于运行的方法和计算机程序产品。