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公开(公告)号:CN115249626A
公开(公告)日:2022-10-28
申请号:CN202210271087.0
申请日:2022-03-18
Applicant: 细美事有限公司 , 信一化学工业株式会社
Abstract: 根据本发明的一实施例,可以提供一种液体处理装置以及基板处理方法,液体处理装置包括:基板支承单元,包括在下方支承基板的卡盘;流体供应单元,向所述基板供应处理流体;以及回收单元,配置成环绕所述卡盘的周边并回收被供应的所述处理流体。此时,所述基板支承单元由在PFA(Perfluoroalkoxy alkane)树脂中混合与普通碳纤维相比加工成纤维长度短的磨碎碳纤维(MCF,Milled Carbon Fiber)的除电材料形成,从而在进行工艺时,可以有效地去除在基板的表面或者处理装置中产生的静电。
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公开(公告)号:CN103035551B
公开(公告)日:2015-07-15
申请号:CN201210269687.X
申请日:2012-07-30
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 提供了用于处理基板的设备和方法。具体地,提供了用于通过超临界工艺处理基板的设备和方法。所述设备包括:壳体,所述壳体提供用于执行工艺的空间;支撑构件,所述支撑构件设置在壳体中以支撑基板;供给口,所述供给口构造成将处理液供给到壳体;遮蔽构件,所述遮蔽构件设置在供给口和支撑构件之间以阻止处理液被直接注入到基板;和排出口,所述排出口构造成从壳体排出处理液。
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公开(公告)号:CN103035551A
公开(公告)日:2013-04-10
申请号:CN201210269687.X
申请日:2012-07-30
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 本发明提供了用于处理基板的设备和方法。具体地,提供了用于通过超临界工艺处理基板的设备和方法。所述设备包括:壳体,所述壳体提供用于执行工艺的空间;支撑构件,所述支撑构件设置在壳体中以支撑基板;供给口,所述供给口构造成将处理液供给到壳体;遮蔽构件,所述遮蔽构件设置在供给口和支撑构件之间以阻止处理液被直接注入到基板;和排出口,所述排出口构造成从壳体排出处理液。
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公开(公告)号:CN101447401B
公开(公告)日:2010-12-08
申请号:CN200810170063.6
申请日:2008-10-22
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01L21/00
CPC classification number: H01L21/67207 , H01L21/67161 , H01L21/67184 , H01L21/6719 , H01L21/67196 , Y10S134/902 , Y10T29/49826
Abstract: 本发明提供一种基底处理装置以及一种制造基底处理装置的方法。加工设备的加工单元得到模块化,并且得到模块化的加工单元可拆除地被布置在主框架中。根据这一特征,可以减少制造加工设备所需的作业时间和工作量。另外,还可以很容易地完成每一个加工单元的保养/维修。
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公开(公告)号:CN101447401A
公开(公告)日:2009-06-03
申请号:CN200810170063.6
申请日:2008-10-22
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01L21/00
CPC classification number: H01L21/67207 , H01L21/67161 , H01L21/67184 , H01L21/6719 , H01L21/67196 , Y10S134/902 , Y10T29/49826
Abstract: 本发明提供一种基底处理装置以及一种制造基底处理装置的方法。加工设备的加工单元得到模块化,并且得到模块化的加工单元可拆除地被布置在主框架中。根据这一特征,可以减少制造加工设备所需的作业时间和工作量。另外,还可以很容易地完成每一个加工单元的保养/维修。
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