基板处理装置以及其制造方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115249626A

    公开(公告)日:2022-10-28

    申请号:CN202210271087.0

    申请日:2022-03-18

    Abstract: 根据本发明的一实施例,可以提供一种液体处理装置以及基板处理方法,液体处理装置包括:基板支承单元,包括在下方支承基板的卡盘;流体供应单元,向所述基板供应处理流体;以及回收单元,配置成环绕所述卡盘的周边并回收被供应的所述处理流体。此时,所述基板支承单元由在PFA(Perfluoroalkoxy alkane)树脂中混合与普通碳纤维相比加工成纤维长度短的磨碎碳纤维(MCF,Milled Carbon Fiber)的除电材料形成,从而在进行工艺时,可以有效地去除在基板的表面或者处理装置中产生的静电。

    用于处理基板的设备和方法

    公开(公告)号:CN103035551B

    公开(公告)日:2015-07-15

    申请号:CN201210269687.X

    申请日:2012-07-30

    Abstract: 提供了用于处理基板的设备和方法。具体地,提供了用于通过超临界工艺处理基板的设备和方法。所述设备包括:壳体,所述壳体提供用于执行工艺的空间;支撑构件,所述支撑构件设置在壳体中以支撑基板;供给口,所述供给口构造成将处理液供给到壳体;遮蔽构件,所述遮蔽构件设置在供给口和支撑构件之间以阻止处理液被直接注入到基板;和排出口,所述排出口构造成从壳体排出处理液。

    用于处理基板的设备和方法

    公开(公告)号:CN103035551A

    公开(公告)日:2013-04-10

    申请号:CN201210269687.X

    申请日:2012-07-30

    Abstract: 本发明提供了用于处理基板的设备和方法。具体地,提供了用于通过超临界工艺处理基板的设备和方法。所述设备包括:壳体,所述壳体提供用于执行工艺的空间;支撑构件,所述支撑构件设置在壳体中以支撑基板;供给口,所述供给口构造成将处理液供给到壳体;遮蔽构件,所述遮蔽构件设置在供给口和支撑构件之间以阻止处理液被直接注入到基板;和排出口,所述排出口构造成从壳体排出处理液。

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