用于处理基板的设备和方法

    公开(公告)号:CN103035551B

    公开(公告)日:2015-07-15

    申请号:CN201210269687.X

    申请日:2012-07-30

    Abstract: 提供了用于处理基板的设备和方法。具体地,提供了用于通过超临界工艺处理基板的设备和方法。所述设备包括:壳体,所述壳体提供用于执行工艺的空间;支撑构件,所述支撑构件设置在壳体中以支撑基板;供给口,所述供给口构造成将处理液供给到壳体;遮蔽构件,所述遮蔽构件设置在供给口和支撑构件之间以阻止处理液被直接注入到基板;和排出口,所述排出口构造成从壳体排出处理液。

    用于处理基板的设备和方法

    公开(公告)号:CN103035551A

    公开(公告)日:2013-04-10

    申请号:CN201210269687.X

    申请日:2012-07-30

    Abstract: 本发明提供了用于处理基板的设备和方法。具体地,提供了用于通过超临界工艺处理基板的设备和方法。所述设备包括:壳体,所述壳体提供用于执行工艺的空间;支撑构件,所述支撑构件设置在壳体中以支撑基板;供给口,所述供给口构造成将处理液供给到壳体;遮蔽构件,所述遮蔽构件设置在供给口和支撑构件之间以阻止处理液被直接注入到基板;和排出口,所述排出口构造成从壳体排出处理液。

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