公开(公告)号：CN107564836A

公开(公告)日：2018-01-09

申请号：CN201710523906.5

申请日：2017-06-30

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 李知桓 ,  崔重奉 ,  許瓒宁 ,  許弼覠 ,  姜秉万

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/683

Abstract: 公开了一种基板处理装置。基板处理装置包括：旋转头；支撑轴，其与旋转头的下部连接以支撑旋转头；销，其位于旋转头的上表面上以支撑基板并且在其内部具有空间；和喷嘴构件，其被构造成向位于旋转头上的基板供应液体。

公开(公告)号：CN107564836B

公开(公告)日：2021-01-05

申请号：CN201710523906.5

申请日：2017-06-30

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 李知桓 ,  崔重奉 ,  許瓒宁 ,  許弼覠 ,  姜秉万

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/683

Abstract: 公开了一种基板处理装置。基板处理装置包括：旋转头；支撑轴，其与旋转头的下部连接以支撑旋转头；销，其位于旋转头的上表面上以支撑基板并且在其内部具有空间；和喷嘴构件，其被构造成向位于旋转头上的基板供应液体。