曝光装置和曝光方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102043345A

    公开(公告)日:2011-05-04

    申请号:CN201010508580.7

    申请日:2010-10-13

    Applicant: 索尼公司

    Abstract: 本发明提供了曝光装置和曝光方法,该曝光装置包括:旋转驱动部,旋转地驱动曝光对象;光照射部,利用激光照射曝光对象的曝光面;滑动移动部,被固定至旋转驱动部或光照射部,并在横穿旋转驱动部的旋转方向的方向上沿着曝光面移动旋转驱动部或光照射部;信号生成部,根据来自旋转驱动部的旋转同步信号向光照射部发送模拟调制信号,该模拟调制信号引起激光强度改变;以及控制部,控制旋转驱动部、滑动移动部和光照射部的移动。

    曝光装置和曝光方法
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102043345B

    公开(公告)日:2014-06-25

    申请号:CN201010508580.7

    申请日:2010-10-13

    Applicant: 索尼公司

    Abstract: 本发明提供了曝光装置和曝光方法,该曝光装置包括:旋转驱动部,旋转地驱动曝光对象;光照射部,利用激光照射曝光对象的曝光面;滑动移动部,被固定至旋转驱动部或光照射部,并在横穿旋转驱动部的旋转方向的方向上沿着曝光面移动旋转驱动部或光照射部;信号生成部,根据来自旋转驱动部的旋转同步信号向光照射部发送模拟调制信号,该模拟调制信号引起激光强度改变;以及控制部,控制旋转驱动部、滑动移动部和光照射部的移动。

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